光致抗蚀剂曝光的虚膜插入模拟技术

提出了在各膜层之间插入虚膜的计算方法 ,导出了相应的光学薄膜传输矩阵 .该方法使得膜与膜之间解耦 ,并便于在计算机上存储和计算薄膜的反射率、透射率以及能流密度 .对抗蚀剂曝光的计算结果表明这种技术是有效的 .

用光学传输矩阵模拟光致抗蚀剂中的驻波效应

抗蚀剂曝光的模拟与光刻系统空间像模拟紧密相连 ,一般是用标量衍射方法在特殊几何形状的光源分布和特殊掩摸结构的条件下计算的 ,实质是一定边界条件和初始条件下 Maxwell方程组的求解。驻波是曝光中的寄生效应 ,是光线垂直入射到不同的平行平面介质层之间 ,经多次反射并干涉形成的。驻波的边界条件是平行界面上电磁场矢理的连续。在这种条件下对驻波的描述有 BERNING的多层光学薄膜模型和 MACK的膜层递推解析模型。本文用传统的光学传输矩阵模型来描述 ,建立了简洁有效的迭代算法 ,分析了该算法的收敛性 ,并编制出相应的计算程序 。