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脉冲磁控溅射制备树脂镜片红外防护功能薄膜
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作者 冯海华 胡川 +2 位作者 陈娇洁 王媛媛 厉以宇 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2011年第3期98-102,共5页
选取氮化硅和二氧化硅作为薄膜材料,借助膜系设计软件对膜系结构进行优化,采用中频脉冲磁控溅射技术进行薄膜制备。利用高反膜透射曲线拟合方法调整薄膜的实际沉积速率,减少膜厚控制误差,在树脂镜片CR39基底的凸面和凹面上分别镀制... 选取氮化硅和二氧化硅作为薄膜材料,借助膜系设计软件对膜系结构进行优化,采用中频脉冲磁控溅射技术进行薄膜制备。利用高反膜透射曲线拟合方法调整薄膜的实际沉积速率,减少膜厚控制误差,在树脂镜片CR39基底的凸面和凹面上分别镀制了符合设计要求的红外防护膜和可见光减反膜。镀膜后树脂镜片在420~680nm的平均透过率大于95%,在近红外800~1400nm波段的平均透过率小于60%,薄膜性能稳定,能够满足红外防护树脂镜片的日常使用需要。 展开更多
关键词 薄膜 红外防护膜 中频脉冲磁控溅射 树脂镜片
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