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低碳钢表面正硅酸四乙酯聚膜的耐蚀性
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作者 李文辉 《宝鸡文理学院学报(自然科学版)》 CAS 2005年第1期38-41,共4页
用自腐蚀(FC)、X射线光电子能谱(XPS)、傅里叶变换红外光谱 (FT-IR)和电化学 (EC)等方法,研究了低碳钢表面在不同烘烤温度下直接聚合正硅酸四乙酯 (TEOS)成膜的覆盖层在 3. 5%NaCl水溶液中的耐蚀性能。结果表明,TEOS聚合膜具有较高的势... 用自腐蚀(FC)、X射线光电子能谱(XPS)、傅里叶变换红外光谱 (FT-IR)和电化学 (EC)等方法,研究了低碳钢表面在不同烘烤温度下直接聚合正硅酸四乙酯 (TEOS)成膜的覆盖层在 3. 5%NaCl水溶液中的耐蚀性能。结果表明,TEOS聚合膜具有较高的势垒效应,高温烘烤时,该聚合膜的烃基与氢氧化铁有效缩聚成膜,呈现化学吸附机理,且致密性和耐蚀性好。 展开更多
关键词 正硅酸四乙酯 聚合膜 烘烤 化学吸附机理 抑制效应
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