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无机偶合反应化学发光分析法测定痕量汞的研究——o—Phen—K_4Fe(CN)_6—Luminol体系
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作者 赵志强 章竹君 贾玉江 《云南大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1993年第S1期111-112,共2页
测定痕量汞的分析方法很多,其中以冷原子荧光法的灵敏度为最高,使用不同挡次的仪器,检测限约在10<sup>-10</sup>~5×10<sup>-11</sup>g/ml范围,是一般化学法望尘莫及的,化学发光法是一种高灵敏的分析方法... 测定痕量汞的分析方法很多,其中以冷原子荧光法的灵敏度为最高,使用不同挡次的仪器,检测限约在10<sup>-10</sup>~5×10<sup>-11</sup>g/ml范围,是一般化学法望尘莫及的,化学发光法是一种高灵敏的分析方法,但无汞的灵敏发光反应,有人曾试图用抑制化学发光法测定汞,检测限只能达10<sup>-7</sup>g/ml和10<sup>-9</sup>g/ml。 展开更多
关键词 化学发光分析法 CN K4Fe LUMINOL PHEN 偶合反应 痕量汞 冷原子荧光 检测限 鲁米诺
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