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入射能量对Ti/Al(001)沉积薄膜微观结构的影响
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作者 游晓燕 陈尚达 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI 2015年第2期182-185,共4页
利用分子动力学模拟了Ti原子在Al(001)表面的薄膜生长过程,通过对沉积薄膜表面粗糙度、径向分布函数、键对含量比的计算和界面结合的分析,研究入射能量对薄膜质量的影响。结果表明:当入射能量为0.1eV时,Ti薄膜粗糙,随着入射能量的增加,... 利用分子动力学模拟了Ti原子在Al(001)表面的薄膜生长过程,通过对沉积薄膜表面粗糙度、径向分布函数、键对含量比的计算和界面结合的分析,研究入射能量对薄膜质量的影响。结果表明:当入射能量为0.1eV时,Ti薄膜粗糙,随着入射能量的增加,薄膜表面粗糙度降低,薄膜越趋于层状生长;Ti原子仅入射到基体最表面2层,仅为表面结合,无金属化合物;入射能量对Ti薄膜微观结构的影响很小,且Ti薄膜以fcc结构为主。 展开更多
关键词 分子动力学 入射能量 Ti/Al薄膜
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