期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
3
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
基于变异和动态信息素更新的蚁群优化算法
被引量:
45
1
作者
朱庆保
杨志军
《软件学报》
EI
CSCD
北大核心
2004年第2期185-192,共8页
尽管蚁群优化算法在优化计算中已得到了很多应用,但在进行大规模优化时,其收敛时间过长仍是应用该算法的一个瓶颈.为此,提出了一种高速收敛算法.该算法采用一种新颖的动态信息素更新策略,以保证在每次搜索中,每只蚂蚁都对搜索做出贡献;...
尽管蚁群优化算法在优化计算中已得到了很多应用,但在进行大规模优化时,其收敛时间过长仍是应用该算法的一个瓶颈.为此,提出了一种高速收敛算法.该算法采用一种新颖的动态信息素更新策略,以保证在每次搜索中,每只蚂蚁都对搜索做出贡献;同时,还采取了一种独特的变异策略,以对每次搜索的结果进行优化.计算机实验结果表明,该算法与最新的改进蚁群优化算法相比,其收敛速度提高了数十倍乃至数百倍以上.
展开更多
关键词
蚁群优化
最近邻居
动态信息素更新
变异算法
下载PDF
职称材料
D优化的实验设计在IC工艺和器件优化中的应用
被引量:
2
2
作者
甘学温
A.J.Walton
《微电子学》
CAS
CSCD
1996年第5期281-286,共6页
论述了实验设计(DOE)技术与TCAD相结合用于半导体工艺和器件性能优化的新途径,它可以极大地减少开发和研制新工艺、新器件的时间和成本。D优化的实验设计方法在安排实验方面有很大的灵活性。本文以亚微米埋沟PMOS晶体管...
论述了实验设计(DOE)技术与TCAD相结合用于半导体工艺和器件性能优化的新途径,它可以极大地减少开发和研制新工艺、新器件的时间和成本。D优化的实验设计方法在安排实验方面有很大的灵活性。本文以亚微米埋沟PMOS晶体管为例,讨论了用D优化的实验设计拟合响应表面的方法以及改善模型拟合精度的措施。根据拟合的响应表面预测器件性能,优化工艺条件,预测结果和模拟结果取得了很好的一致性。
展开更多
关键词
集成电路
半导体工艺
实验设计
设计优化
下载PDF
职称材料
响应表面方法与模拟相结合用于埋沟道PMOS器件性能优化
3
作者
甘学温
WALTONAJ
《北京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第5期655-662,共8页
响应表面方法与TCAD相结合是一个极具潜力的有用技术,它可以极大地减少研制和优化IC工艺的时间和成本。本文介绍了用响应表面的实验设计与模拟相结合获得模型方程并用于工艺优化的方法和优点。D-优化的设计方法和其他措施结合...
响应表面方法与TCAD相结合是一个极具潜力的有用技术,它可以极大地减少研制和优化IC工艺的时间和成本。本文介绍了用响应表面的实验设计与模拟相结合获得模型方程并用于工艺优化的方法和优点。D-优化的设计方法和其他措施结合改善模型拟合精度,得到的响应表面用于对亚微米埋沟道PMOS器件性能进行预测和优化。用响应表面得到优化的工艺条件。
展开更多
关键词
响应表面
模型拟合
集成电路
PMOS器件
埋沟道
下载PDF
职称材料
题名
基于变异和动态信息素更新的蚁群优化算法
被引量:
45
1
作者
朱庆保
杨志军
机构
南京师范
大学
计算机科学
系
爱丁堡大学电子工程系
出处
《软件学报》
EI
CSCD
北大核心
2004年第2期185-192,共8页
基金
江苏省教育厅自然科学基金No. 01KJB520007~~
文摘
尽管蚁群优化算法在优化计算中已得到了很多应用,但在进行大规模优化时,其收敛时间过长仍是应用该算法的一个瓶颈.为此,提出了一种高速收敛算法.该算法采用一种新颖的动态信息素更新策略,以保证在每次搜索中,每只蚂蚁都对搜索做出贡献;同时,还采取了一种独特的变异策略,以对每次搜索的结果进行优化.计算机实验结果表明,该算法与最新的改进蚁群优化算法相比,其收敛速度提高了数十倍乃至数百倍以上.
关键词
蚁群优化
最近邻居
动态信息素更新
变异算法
Keywords
ant colony optimization
nearest neighbour
dynamic pheromone updating
mutation algorithm
分类号
TP301 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
下载PDF
职称材料
题名
D优化的实验设计在IC工艺和器件优化中的应用
被引量:
2
2
作者
甘学温
A.J.Walton
机构
北京
大学
微
电子
学研究所
英国
爱丁堡大学电子工程系
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
1996年第5期281-286,共6页
文摘
论述了实验设计(DOE)技术与TCAD相结合用于半导体工艺和器件性能优化的新途径,它可以极大地减少开发和研制新工艺、新器件的时间和成本。D优化的实验设计方法在安排实验方面有很大的灵活性。本文以亚微米埋沟PMOS晶体管为例,讨论了用D优化的实验设计拟合响应表面的方法以及改善模型拟合精度的措施。根据拟合的响应表面预测器件性能,优化工艺条件,预测结果和模拟结果取得了很好的一致性。
关键词
集成电路
半导体工艺
实验设计
设计优化
Keywords
Integrated circuit,Semiconductor process,Design of experiment,Technology CAD,D optimization
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
响应表面方法与模拟相结合用于埋沟道PMOS器件性能优化
3
作者
甘学温
WALTONAJ
机构
北京
大学
微
电子
学研究所
爱丁堡大学电子工程系
出处
《北京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第5期655-662,共8页
文摘
响应表面方法与TCAD相结合是一个极具潜力的有用技术,它可以极大地减少研制和优化IC工艺的时间和成本。本文介绍了用响应表面的实验设计与模拟相结合获得模型方程并用于工艺优化的方法和优点。D-优化的设计方法和其他措施结合改善模型拟合精度,得到的响应表面用于对亚微米埋沟道PMOS器件性能进行预测和优化。用响应表面得到优化的工艺条件。
关键词
响应表面
模型拟合
集成电路
PMOS器件
埋沟道
分类号
TN432.05 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于变异和动态信息素更新的蚁群优化算法
朱庆保
杨志军
《软件学报》
EI
CSCD
北大核心
2004
45
下载PDF
职称材料
2
D优化的实验设计在IC工艺和器件优化中的应用
甘学温
A.J.Walton
《微电子学》
CAS
CSCD
1996
2
下载PDF
职称材料
3
响应表面方法与模拟相结合用于埋沟道PMOS器件性能优化
甘学温
WALTONAJ
《北京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
1996
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部