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题名磁控溅射法制备Cu/ITO薄膜及其耐蚀性能研究
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作者
朱云龙
孙芳
姜宏伟
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机构
牡丹江师范学院物理与电子工程学院黑龙江省新型碳基功能与超硬材料重点实验室
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出处
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2023年第2期86-93,共8页
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基金
牡丹江师范学院校级项目(YB2019008)
黑龙江省自然科学基金(LH2019A024)
+1 种基金
黑龙江省教育厅项目(1355ZD013)
大学生创新创业项目(201910233032)。
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文摘
采用磁控溅射技术在ITO基底上制备出了Cu薄膜,考察了溅射压强和溅射功率对Cu薄膜微观结构的影响,采用电子扫描显微镜、X射线衍射仪对薄膜的形貌和结构进行了表征,并采用电化学腐蚀实验研究了薄膜的耐蚀性能。结果表明:随着压强从3 Pa增加到8 Pa,薄膜的晶粒尺寸先增加后减小,结晶度先减弱后增强,压强的增大有利于表面粒子的扩散,使薄膜更加平整,但对表面粗糙度影响不大,压强为5 Pa时,晶粒尺寸较大。溅射功率对薄膜的结晶度和晶粒尺寸影响较大,随着功率从200 W增加到400 W,薄膜的结晶度逐渐增加,功率增加到400 W时,晶粒尺寸明显增加,此时薄膜表面粗糙度较大。晶粒尺寸的增加有利于增强薄膜的耐蚀性能,表面粗糙度的增加使薄膜耐蚀性减弱。在压强为5 Pa,功率为200 W和400 W时,所得薄膜耐蚀性较好,铜薄膜的耐蚀性由薄膜的晶粒尺寸、表面粗糙度等因素共同决定,二者对其耐蚀性影响呈现出一种竞争关系。
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关键词
磁控溅射
Cu薄膜
耐蚀性能
微观形貌
团簇
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Keywords
magnetron sputtering
Cu films
corrosion resistance
micro-morphology
clusters
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分类号
TB742
[一般工业技术—材料科学与工程]
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题名磁控溅射法制备纳米Cu薄膜及其微结构的研究
被引量:2
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作者
朱云龙
孙芳
姜宏伟
肖事成
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机构
牡丹江师范学院物理与电子工程学院黑龙江省新型碳基功能与超硬材料重点实验室
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出处
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2022年第3期29-34,共6页
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基金
黑龙江省自然科学基金(LH2019A024)
牡丹江师范学院校级项目(YB2019008)
大学生创新创业项目(201910233032)。
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文摘
采用磁控溅射法制备出以ITO为基底的纯Cu薄膜,考察溅射时间和基底温度等工艺条件对生长Cu薄膜的影响。用电子扫描显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)对薄膜的形貌、厚度和结构进行表征。实验结果表明:在一定范围内调控衬底温度和溅射时间,可获得不同形貌、尺寸和厚度的Cu薄膜,所得薄膜的晶体结构为面心立方结构,均沿(111)方向择优生长。时间是控制晶粒尺寸的重要因素,溅射时间为40 min,所得薄膜粒子较小,结晶度好,且薄膜致密均匀,随着镀膜时间的增加,膜厚与之成线性关系增加,沉积速率为0.242μm/min;温度对薄膜形貌影响显著,100℃时可获得由小粒子堆积成的类柱状结构组成的薄膜,200℃时可获得由小粒子堆积成的球形团簇组成的薄膜,随着镀膜温度的增加,膜厚与之不呈线性关系,沉积速率随温度的增加而增大;该方法所制备铜薄膜在催化、传感器等领域有潜在的应用价值。
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关键词
CU
薄膜
磁控溅射
微观形貌
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Keywords
Cu
thin film
magnetron sputtering
morphology
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分类号
TB742
[一般工业技术—材料科学与工程]
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