Yb^(3+)/Tm^(3+)共掺的硅酸盐玻璃上转换发光性能

采用高温熔融法制备了掺杂不同比例Yb^(3+)和Tm^(3+)的硅酸盐玻璃。吸收光谱表明,Yb^(3+)和Tm^(3+)在300~1 100 nm的吸收过程彼此不干扰。研究了玻璃样品在980 nm LD泵浦下的上转换发光行为,结果表明:Yb^(3+)/Tm^(3+)在477 nm(1G4→3H6)发射强烈的上转换蓝光,在654 nm(1G4→3F4)发射较弱的红光,在795 nm(3H4→3H6)发射微弱的红外光。提高Yb^(3+)的比例均能够提高477 nm蓝光、654 nm红光和795 nm红外光的发射强度。研究分析了上转换发光强度与激光器泵浦功率之间的关系,结果表明上转换蓝光和红光发射均为三个光子过程,红外光发射为两个光子过程。分析了Yb^(3+)、Tm^(3+)在硅酸盐玻璃中上转换发光的机制。

Li^+对硅酸盐玻璃中Yb^(3+)、Tm^(3+)上转换效率的影响

利用高温熔融法制备了不同Li^+含量的掺杂Yb^(3+)、Tm^(3+)的硅酸盐玻璃样品,玻璃样品在980 nm半导体激光器的泵浦下能够产生477 nm的蓝光和654 nm的红光。由上转换的荧光强度和泵浦功率的双对数拟合直线得到,添加Li^+能够增加上转换过程中Tm^(3+)向上跃迁的几率,Tm^(3+)的3F2和1G4能级的粒子数布居增加,从而提高辐射跃迁的几率。红外光谱和拉曼光谱表明Li^+的添加对玻璃基质的声子能量影响不大,却使得声子态密度减小,使上转换效率提高,从而提高Yb^(3+)、Tm^(3+)在硅酸盐玻璃中的发光强度。

遮阳可控性低辐射玻璃的制备及性能

本研究通过常压CVD法在玻璃基板上分别镀制单层SnO2∶Sb(ATO)薄膜和SnO_2∶F(FTO)/ATO复合薄膜,研究单层ATO薄膜和复合薄膜对玻璃光电性能的影响。结果表明:单层ATO薄膜和复合薄膜均为四方金红石型多晶SnO_2薄膜,且结晶性能良好,结晶度高。单层ATO薄膜可明显降低玻璃的透过率,改善玻璃的导电性和遮阳性。复合薄膜相对于单层ATO薄膜,导电性、遮阳性和辐射性能均有较大的提升,薄膜电阻率、遮阳系数和辐射率随着复合薄膜膜厚的增加而逐渐降低,薄膜晶粒增大。当复合薄膜厚度为821nm时,薄膜电阻率为4.9×10^(-4)Ω·cm,遮阳系数和辐射率分别为0.50和0.06,远红外反射率达到93.9%。

模拟浮法在线工艺制备多功能TiN镀膜玻璃

本文模拟浮法玻璃在线CVD镀膜工艺,利用常压化学气相沉积小型镀膜机,以TiCl_4和NH_3作为反应物前驱体,成功地在玻璃表面镀制一层TiN薄膜,获得了具有高阻隔紫外及反射红外的多功能镀膜玻璃。对其性能进行分析显示:随着反应物NH3流量的增加,TiN薄膜阻隔紫外线的性能逐渐提高,在近红外区的Drude型反射区域有所缩小,但其在高频近红外波段的反射率有所提高。当NH_3达到300sccm时,能够完全阻隔低于380nm的紫外线波段,反射红外线效果良好。随着基板移动速率的增大,在一定程度内可以提高薄膜对近红外线的反射能力,但阻隔紫外线的性能逐渐降低。

全氧燃烧浮法熔窑产生铝质玻璃缺陷的原因分析

利用光学显微镜和扫描电镜-能谱仪,对全氧燃烧玻璃生产线产生的玻璃缺陷进行检测,鉴别出缺陷类型。结合全氧燃烧玻璃熔窑耐火材料特点和全氧燃烧工艺特点分析了玻璃缺陷产生的原因,并给出了防范措施。

澄清剂及硅砂中有机物对玻璃着色及透过率的影响

研究了玻璃澄清剂芒硝、碳粉以及硅砂原料烧失量,对玻璃着色及透过率的影响,分析了透过光谱曲线的变化,探讨了玻璃中铁离子受氧化还原气氛的影响,价态发生改变对玻璃颜色及其性能的影响规律。

超薄高铝盖板玻璃退火段自动控制技术

通过对退火段的研究,总结出了3种控制手段来对高铝超薄玻璃的退火过程进行控制和调整,分别是退火段各点速度根据玻璃收缩率来调节,针对超薄玻璃板毛边的精确退火温度控制,退火窑壳体内碎玻璃自动运输和回收装置。通过以上的技术实施,可以有效解决毛细划伤、炸板、翘曲、玻筋(波纹度不均匀)等退火问题。

大碹密封料选择错误引起的玻璃缺陷

利用光学显微镜和扫描电镜-能谱仪,对浮法玻璃生产线产生的玻璃缺陷-疖瘤进行检测,结合玻璃熔窑结构及所用耐火材料进行排查,根据疖瘤的成分找出了疖瘤的产生原因为使用了不恰当的密封泥料造成。利用高温内窥镜对熔窑大碹进行了探测,并给出了解决措施。

浮法玻璃熔窑陶瓷鼓泡器安装后的工艺控制及分析

以实际案例对陶瓷鼓泡器安装前后的工艺控制及质量情况进行了对比、分析,论证了鼓泡技术在提高熔化能力,促进澄清方面的作用,指出了鼓泡器安装后工艺控制调整的必要性及熔窑安全的注意事项。

二次催化对SiO2溶胶成膜性能的影响

采用酸碱两步法的3种不同二次催化手段制备相应的SiO_2溶胶,研究其纳米颗粒粒径、膜层表面形貌、透过率增益以及膜层硬度等性能差异,并与最初的碱催化溶胶进行比较。结果表明:以酸碱两步法Ⅰ型、Ⅱ型、Ⅲ型这3种方式进行二次催化之后,溶胶颗粒粒径均变大且粒径分布范围扩大;镀膜表面不同程度的趋向于致密化;透过率增益降低但膜层硬度提高。经对比,酸碱两步法Ⅰ型所制备膜层综合性能最佳。

水对常压CVD法制备SnO2:F透明导电薄膜雾度的影响

为制备高雾度、高透过和高导电透明导电薄膜玻璃,采用常压CVD法在硼硅玻璃基板上分别以单丁基三氯化锡(MBTC)为前驱物、三氟乙酸(TFA)为掺杂剂、去离子水为催化剂,制备了Sn O_2:F透明导电薄膜。研究了不同水用量对薄膜雾度的影响,并分析影响雾度变化的机理。结果表明:通过调节水的用量可实现高雾度、高透过和高导电薄膜的生成。随着水用量的增加,薄膜平均晶粒尺寸、结晶度和雾度先增大后减小;当水用量为MBTC摩尔量的1.5倍时,制备出雾度为14.3%、可见光透过率为76.8%、方块电阻为3.2?/□的薄膜。水的加入和用量的调节有效的解决了雾度和透过率之间相互影响的难题。