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去除正畸粘结剂后釉质表面的扫描电镜观察 被引量:8
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作者 田杰 林薇薇 +2 位作者 冯雪 林珠 惠光艳 《牙体牙髓牙周病学杂志》 CAS 1997年第2期91-93,共3页
目的:探求一种理想的去除正畸粘结剂和釉质表面处理的方法。方法:选择正畸拔除的健康前磨牙30个,常规粘结托槽。去除托槽后将实验牙随机分为5组,每组6个,分别用5种方法去除粘结剂和牙面处理,然后用扫描电镜进行观察。结果:... 目的:探求一种理想的去除正畸粘结剂和釉质表面处理的方法。方法:选择正畸拔除的健康前磨牙30个,常规粘结托槽。去除托槽后将实验牙随机分为5组,每组6个,分别用5种方法去除粘结剂和牙面处理,然后用扫描电镜进行观察。结果:所有方法均可有效地去除粘结剂,但均对釉质有不同程度的损害,且均有粘结剂残留。结论:以金刚砂尖效果最差,绿色橡皮轮加抛光最为理想。后者是值得推荐的一种去粘结和釉质抛光方法。 展开更多
关键词 粘结剂 扫描电镜 釉质 口腔正畸学
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