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用C语言实现图形方式下的花样清屏
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作者 丁永峰 《现代计算机》 1995年第7期26-29,共4页
本文介绍了在EGA/VGA图形方式下,采用了多种新颖别致的清屏方法,即自上至下的瀑布式和从中间向两边拉的拉幕式、两边向中间拉的闭幕式、从左至右或从右至左式、旋转方式等。此种方法用Turboc2.0实现,并给出了详细的程序清单。
关键词 清屏 图形模式 图形适配器 C语言 程序设计
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远紫外光刻现状及未来
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作者 童志义 《微电子技术》 1997年第2期10-17,共8页
本文主要过评了光学光刻技术在由0.35μmat艺向0.25μm工艺阶段转移的技术革命中所面临的挑战,以及远紫外光刻所处的地位,现状及今后的发展趋势。
关键词 光学光刻 远紫外曝光 0.25μm工艺 集成电路
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