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匀胶铬版表面界面微观构成的X射线光电子能谱表征
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作者 任殿胜 华庆恒 +1 位作者 严如岳 刘咏梅 《分析测试学报》 CAS CSCD 1997年第5期45-47,共3页
用X射线光电子能谱(XPS)研究了几种不同工艺制备的匀胶铬版表面、铬膜内部以及各层之间界面处的微观化学组成和化学状态,讨论了不同工艺对铬版材料微观构成及宏观特性的影响。
关键词 匀胶铬版 表面 界面 XPS 铬版 光刻掩模材料
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光电子新材料GaN研究进展 被引量:5
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作者 谢崇木 《半导体情报》 1997年第4期1-8,共8页
给出了GaN晶体的制备方法和特性,详细介绍了GaN外延生长技术及p-GaN掺杂的热退火技术。
关键词 光电子材料 氮化镓 外延生长
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D型微孔单模光纤的研制 被引量:3
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作者 张玲芬 陶卫东 +4 位作者 白贵儒 王雪梅 王村夫 林亦珍 赵金歧 《量子电子学报》 CAS CSCD 1999年第3期282-284,共3页
本文首次报道了采用MCVD工艺和冷加工方法制作的D型微孔单模光纤的研制方法及光纤的性能参数.光纤的工作波长为1.3μm,具有不同的纤芯到微孔平面的距离,其中一根的距离已接近于零,损耗仅为564dB/km.
关键词 微孔光纤 光纤偏振器 单模光纤
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XPS法测量铝箔表面氧化铝的厚度 被引量:4
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作者 任殿胜 华庆恒 +1 位作者 严如岳 刘咏梅 《分析测试学报》 CAS CSCD 1996年第4期63-66,共4页
介绍了一种无需溅射、无需变角,只需一次简单的XPS(X射线光电子能谱)窄扫描,即可根据谱图中氧化态和金属态的相对强度算出铝金属表面氧化铝的厚度。用该法测量了一系列不同方法处理的铝表面氧比铝厚度,并与椭偏法及NRA法(... 介绍了一种无需溅射、无需变角,只需一次简单的XPS(X射线光电子能谱)窄扫描,即可根据谱图中氧化态和金属态的相对强度算出铝金属表面氧化铝的厚度。用该法测量了一系列不同方法处理的铝表面氧比铝厚度,并与椭偏法及NRA法(核反应分析法)测定结果进行了对比,结果表明,该法是一种简便准确的膜厚测量法。 展开更多
关键词 电解电容器 铝箔 氧化铝 厚度 XPS
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石墨炉原子吸收光谱法测定超高纯试剂中钾和钠 被引量:4
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作者 王文琴 魏继中 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第2期71-78,共8页
本文研究了用直接进样、石墨炉原子吸收法测定超高纯试剂盐酸和硝酸中的痕量钾和钠,可省去化学处理及富集等易引致沾污的操作。采用标准加入法得到了满意的结果,钾和钠的检出限分别为0.029ng/ml及0.0057ng/ml。
关键词 超纯试剂 原子吸收光谱 盐酸 硝酸
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碳封闭涂覆光纤制作熔锥型无源器件 被引量:1
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作者 朱冰 钱景仁 +1 位作者 宁鼎 赵金岐 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期89-90,共2页
首次报道使用碳封闭涂覆光纤成功制作熔锥型无源器件.通过对熔锥工艺的控制。
关键词 涂碳光纤 无源器件 熔锥型 碳密封涂覆
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光纤涂碳工艺和特性研究 被引量:4
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作者 宁鼎 赵金岐 《光通信技术》 CSCD 北大核心 1998年第3期225-227,共3页
介绍了利用国产拉丝设备、原材料制造碳密封涂覆光纤的工艺和产品特性。涂碳工艺稳定可靠,光纤静态疲劳参数n>100,平均断裂应力>60N,能够满足苛刻环境对光纤长期可靠性的要求。
关键词 密封涂覆 碳涂覆工艺 涂碳光纤
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SI-GaAs材料的电学补偿 被引量:1
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作者 赖占平 齐德格 +3 位作者 高瑞良 杜庚娜 刘晏凤 刘建宁 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期999-1003,共5页
研究了HPLEC工艺生长半绝缘砷化镓单晶过程中,熔体的化学剂量比对晶体深施主缺陷能级、浅受主碳的浓度以及晶体电学性能的影响.由N 型半绝缘晶体的补偿机理对实验现象进行了解释,给出了既能保证晶体电学性能又可以使缺陷浓度... 研究了HPLEC工艺生长半绝缘砷化镓单晶过程中,熔体的化学剂量比对晶体深施主缺陷能级、浅受主碳的浓度以及晶体电学性能的影响.由N 型半绝缘晶体的补偿机理对实验现象进行了解释,给出了既能保证晶体电学性能又可以使缺陷浓度较低的最佳熔体剂量比.并将近本征半导体的物理模型推广至半绝缘砷化镓单晶,得到了较理想的电阻率范围. 展开更多
关键词 SI-GAAS材料 电学补偿 砷化镓 半导体材料
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PECVD及溅射/蒸发生长二氧化锡薄膜的成形技术 被引量:1
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作者 张沈军 李婉莹 +1 位作者 姚达 陶星 《电子器件》 CAS 1995年第3期180-183,共4页
针对二氧化锡薄膜常用的两种生长方法——等离子增强化学气相沉积(PECVD)及溅射/蒸发生长的不同特点,分别采用了两种不同的剥离工艺方案,由此实现了与IC加工工艺兼容良好的SnO_2薄膜成形技术。
关键词 二氧化锡 薄膜 PECVD 溅射 蒸发生长 成形技术
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ICP-AES测定三甲基铝中金属杂质的研究 被引量:1
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作者 王春梅 张淑珍 吴琼 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期53-55,共3页
MO(金属有机物)源是MOCVD技术的重要原料,对MO源中的金属杂质进行了分析研究。着重讨论了样品的制备、酸度对分析元素谱线强度的影响、基体铝对杂质元素谱线背景影响和光谱谱线干扰,以及基体铝对分析元素谱线强度的影响,... MO(金属有机物)源是MOCVD技术的重要原料,对MO源中的金属杂质进行了分析研究。着重讨论了样品的制备、酸度对分析元素谱线强度的影响、基体铝对杂质元素谱线背景影响和光谱谱线干扰,以及基体铝对分析元素谱线强度的影响,做了回收实验,最后采用基体匹配法对三甲基铝中的金属杂质进行了测定。将不同实验室的分析数据进行对比,结果令人满意。 展开更多
关键词 半导体 三甲基铝 金属杂质 MOCVD ICP-AES
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偏振保持光纤拍长的磁光调制法测量 被引量:5
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作者 宁鼎 《光通信技术》 CSCD 北大核心 1997年第1期42-45,共4页
叙述了利用磁光调制法测量偏振保持光纤拍长的基本原理,介绍了建立的测试系统和方法。
关键词 保偏光纤 光纤 磁光调制 拍长测量
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氢引起光纤损耗增加的实验估算 被引量:1
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作者 宁鼎 胡恺生 《光通信技术》 CSCD 1991年第4期213-217,共5页
通过对MCVD多模光纤进行高温通氢实验和对样品在空气中恢复情况的测量,提出了一种估算氢分子与氢氧根对1.3μm、1.55μm处影响损耗增加的方法。用导出公式对光纤中由氢引起的损耗增加进行了预测。
关键词 多模光纤 光纤 损耗 氢气 高温
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用AES/XPS对异质结材料的研究 被引量:1
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作者 任殿胜 严如岳 +1 位作者 华庆恒 刘咏梅 《半导体情报》 1997年第6期42-45,共4页
用俄歇电子能谱(AES)和x射线光电子能谱(XPS)结合氩离子溅射深度剖析对一系列不同x值的AlxGa1-xAs/GaAs异质结材料中各主元素的分布及化学状态和相对含量的变化进行了分析,发现Al向表面偏析的现象及As... 用俄歇电子能谱(AES)和x射线光电子能谱(XPS)结合氩离子溅射深度剖析对一系列不同x值的AlxGa1-xAs/GaAs异质结材料中各主元素的分布及化学状态和相对含量的变化进行了分析,发现Al向表面偏析的现象及As和Al的择优溅射问题,并对此进行了讨论。同时用XPS法进行了Al的定量分析,并与光致发光法(PL)测得的x值进行了对比。 展开更多
关键词 异质结 X射线 光电子能谱 双极晶体管
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SiC单晶生长技术及器件研究进展 被引量:11
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作者 任学民 《半导体情报》 1998年第4期7-12,共6页
综述了近年来国外SiC单晶及外延层生长、分立器件和集成电路的研究进展情况。
关键词 器件 晶体生长 碳化硅
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Al_xGa_(1-x)As/GaAs异质结材料的XPS研究
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作者 任殿胜 华庆恒 +1 位作者 刘咏梅 严如岳 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 1997年第3期272-275,共4页
用X射线光电子能谱(XPS)结合氩离子溅射深度剖析对一系列不同x值的AlxGa1-xAs/GaAs异质结材料中各主元素的分布及化学状态和相对含量的变化进行了分析,发现Al向表面偏析的现象及As和Al的择优溅射问题,并... 用X射线光电子能谱(XPS)结合氩离子溅射深度剖析对一系列不同x值的AlxGa1-xAs/GaAs异质结材料中各主元素的分布及化学状态和相对含量的变化进行了分析,发现Al向表面偏析的现象及As和Al的择优溅射问题,并对此进行了讨论。同时用XPS法进行了Al的定量分析,并与光致发光法测得的x值进行了对比,发现二者有非常好的线性关系。 展开更多
关键词 XPS 异质结材料
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高T_cYBCO膜结晶完整性在平面内均匀性的XRD测定
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作者 郝建民 湿业礼 +1 位作者 杨秉川 王小平 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 1994年第3期26-29,共4页
该文建立了测量高温超导膜结晶完整性均匀性的方法,通过多点摆动曲线的测量发现。YBCO膜的质量受衬底影响明显,YBCO膜的摆动曲线由一个尖峰和一个宽散的峰组成。推断出一种YBCO膜的生长过程.
关键词 高温超导膜 结晶 均匀性
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玻璃粉中硼、钾、钠的ICP-AES测定
17
作者 王春梅 张淑珍 吴琼 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1994年第6期52-53,共2页
玻璃粉是一种重要的半导体材料。本文采用电感耦合等离子体发射光谱仪对玻璃粉中的硼、钾、钠的定量分析做了研究,研究了样品的溶解、氢氟酸对待测元素的影响,然后进行了内标元素的补偿,在此基础上做了回收实验,并测定了实际样品。
关键词 ICP-AES 玻璃粉 半导体材料
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自润滑轴承失效原因的XPS分析
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作者 任殿胜 严如岳 +2 位作者 李岩松 刘咏梅 华庆恒 《分析测试学报》 CAS CSCD 1996年第1期52-54,共3页
用X射线光电子能谱仪(XPS)对失效前后的自润滑轴承各部件表面的化学组成及其状态进行了分析,结果表明失效前后表面性质差异较大,失效是由于自润滑膜破损耗尽所致。
关键词 自润滑轴承 XPS
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半绝缘砷化镓单晶中AB微缺陷的定量研究
19
作者 齐芸馨 姜春香 《兵器材料科学与工程》 CSCD 北大核心 1995年第3期37-41,46,共6页
研究了50.8mm液封直拉非掺杂半绝缘砷化镓单晶中AB微缺陷的显微特征,率先提出了一种定量表征微缺陷的新方法,揭示了AB微缺陷在单晶各部位的分布规律。
关键词 微缺陷 砷化镓 单晶 半导体材料 定量分析
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X射线Φ扫描峰宽判据
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作者 郝建民 温业礼 +1 位作者 张世敏 王良 《物理测试》 CAS 1996年第3期36-38,共3页
本文从行射几何出发,提出了判断X射线Φ扫描峰宽的判据,并用实验数据对其进行了验证。实验结果还表明:Soller狭缝角孔径过大是产生X射线Φ扫描仪器宽度的主要原因。
关键词 X射线Φ扫描 峰宽 判据 衍射
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