对磁光薄膜进行热磁模拟可以了解影响热磁记录过程的各种因素及这些因素间的相互关系以及它们对写入信息的影响。采用近似计算方法对 Bi、Al替 Dy IG磁光薄膜进行静态热磁模拟 ,得出在居里点写入的情况下写入点半径与写入功率、数值孔...对磁光薄膜进行热磁模拟可以了解影响热磁记录过程的各种因素及这些因素间的相互关系以及它们对写入信息的影响。采用近似计算方法对 Bi、Al替 Dy IG磁光薄膜进行静态热磁模拟 ,得出在居里点写入的情况下写入点半径与写入功率、数值孔径、材料的反射率、材料的热导率及激光波长的关系。该方法为热磁写入过程提供了一种简捷的理论指导。展开更多
文摘对磁光薄膜进行热磁模拟可以了解影响热磁记录过程的各种因素及这些因素间的相互关系以及它们对写入信息的影响。采用近似计算方法对 Bi、Al替 Dy IG磁光薄膜进行静态热磁模拟 ,得出在居里点写入的情况下写入点半径与写入功率、数值孔径、材料的反射率、材料的热导率及激光波长的关系。该方法为热磁写入过程提供了一种简捷的理论指导。