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题名无甲醛型酸性化学镀铜溶液的研究
被引量:1
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作者
陈长生
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机构
电子部华北计算技术研究所(nci)
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出处
《印制电路信息》
1994年第2期35-40,共6页
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文摘
一种新型无甲醛型酸性化学镀铜溶液已被研制出来,它采用次亚磷酸钠为还原荆,取代了传统的甲醛溶液。并分析了铜离子浓度。还原剂浓度,螯合物浓度,溶液温度和PH值对沉积速率的影响,同时对镀层的性能进行了测量与分析。该溶液除可解决严重的公害问题外,由于镀液稳定性好,便于操作维护,以及其镀层的优良品质可用于双面和多层印制板的孔金属化工艺,特别适用于聚酰亚胺基材印制板的孔金属化工艺。
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关键词
酸性化学镀
沉积速率
铜溶液
化学镀铜
镀层性能
孔金属化
抗剥强度
醛型
印制板制造
还原剂
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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