国外光刻制版设备发展动态(续)

8.1 移相掩模技术最初的移相掩模研究是由IBM公司Marc-levenson首先于1982年的IEEE会议上提出的.它是指在普通的电路图形透明掩模层上覆盖一层用作移相器的透明膜层而成.穿过这一双层图形透明膜的辐照光到达片子表面时,透过掩模图形孔与透过移相膜的两波相位相差180°的光重叠,产生了相消干涉作用。

国外光刻制版设备发展动态

主要述评了近两年来国外光刻制版设备的最新发展动态.新颖的扫描激光掩模制作设备正在迅速地向64M DRAM器件的制版领域渗透,i线片子步进机与移相掩模技术的结合将在0.35微米的64M DRAM时代占据优势,潜力巨大的准分子激光步进机与移相掩模的结合将使传统的光学光刻技术于1996年进入0.

2000年微细加工设备发展预测与对策

２０００年微细加工设备发展预测与对策甘肃电子部第四十五研究所（甘肃平凉７４４０００）童志义１前言以ＩＣ为核心的微电子技术已成为当前综合国力的重要体现，成为国际竞争的主要焦点。世界各国已将微电子技术提高到国家意识的高度，作为国家的战略工业发展。而作为微...

2000年微细加工设备发展预测与对策（续）

２０００年微细加工设备发展预测与对策（续）电子部第四十五研究所（甘肃平凉７４４０００）童志义美国国防部高级研究计划局于１９９２年１０月与Ｓａｎｄｅｒｓ和Ｈａｍｐｓｈｉｒｅ两家公司签订了６５０万美元的国防高级光刻技术的合同，由Ｓａｎｄｅｒｓ公司使用Ｈａ...

振动料斗的优化设计

引言 振动料斗是带有电磁振动器的振动上料装置,其在电子工业中应用非常广泛。由于电子工业的零器件、外形尺寸、强度、刚度都很小数量又很多,所以其可以在振动料斗的螺旋料槽上获得各种规律的运动和定向传送。 振动料斗具有效率高、结构简单、稳定可靠、经济实用和安装调整方便等特点。但是料斗设计的主要参数难以确定,最佳的上料进度和上料率以及最好的工作状态就不易得到。为此本文对最佳工作状态下的参数设计做一些探讨。

液晶显示器及其制造设备

本文介绍了液晶显示器的广泛应用及其无以伦比的生命力,并通过对其制造工艺的简介,引出液晶显示器赖以发展的核心是提高合格率和降低成本,而解决这一核心问题的关键在于制造设备的开发。这里对关键设备的性能、关键技术做了介绍,提出了我国发展液晶显示器制造设备的对策。

TZ-109型全自动探针测试台

主要介绍ＴＺ—１０９型全自动探针测试台的用途、结构特点、技术性能、指标和控制方法。

LM—602型自动平面立磨机

LM—602自动平面立磨机主要对彩电、录像机色度延迟线玻璃所规定尺寸形状进行成形磨削,也可对光学玻璃及其它硬脆材料进行平面粗、精磨削。本文着重介绍了该设备的技术参数、工作原理及主要结构。