21世纪真空科学技术的展望

某混沌理论学家曾说过 :“如果一只鸭在北京叫一声 ,那么在远隔数千里的地方 ,天气就会变”。正是 2 0世纪物理学家们的一声声“叫唤” ,世界上各个角落都发生了翻天覆地的变化。真空科学是从与宇宙世界观有很密切关系的科学及哲学概念中产生 ,对 2 0世纪科技进步起到实质性的推动作用。真空技术成功地架设了跨越科学与技术鸿沟的桥梁 ,在几乎所有的前沿科学领域与高技术发展中发挥着实质性作用。2 1世纪开始建立的IT社会必将导致更激烈的技术、经济的竞争和世界民主化进程。真空科学有广阔的发展前景 ,一系列重大科学课题还有待于解决 ,如 :真空是充满物质与反物质对的空间吗 ?黑洞是完全真空的一个“相”吗 ?如果真空是一个多样能量出现的场所 ,存在真空相变态吗 ?真空相变态能否在瞬间发生巨大能量 ?”。与人类进步密切相关的科研与生产都涉及真空环境 。

TFT/PDP用真空成膜技术和设备

本文介绍了ＴＦＴ／ＰＤＰ用真空成膜技术和设备，主要介绍ＴＦＴ用ＩＴＯ膜和ＰＤＰ用ＭｇＯ／Ｃｕ．Ｃｒ．Ａｌ膜的成膜技术和设备。

真空技术的最新动向

真空技术的最新动向①林主税博士（日本真空技术株式会社）ＮｅｗＤｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｏｆＶａｃｕｕｍＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＤｒ．ＣｈｉｋａｒａＨａｙａｓｈｉ（ＵＬＶＡＣＵｌｔｉｍａｔｅｉｎＶａｃｕｕｍ）一、要求技术开发的一般因素我认为目前引发或迫切要求技...

使用低电压高利用率新型α阴极制备ITO膜

本文介绍由日本真空技术株式会社开发的新型ＩＴＯ膜溅射阴极——α阴极，同以往相比它具有诸如高靶材利用率、低溅射电压、高功率——高速率以及无需靶的清洗等优点。

（日本）电子产品成膜技术的动向

本文介绍了平板显示器制造过程中真空设备的应用，其中介绍了液晶制造过程中所应用的溅射成膜工艺和设备，以及低温多晶硅ＴＦＴ的成膜技术。

DC反应溅射时防止异常放电的电源（A^2K）

日本真空技术株式会社研制的Ａ２Ｋ装置可以有效地抑制ＤＣ溅射中的异常放电，而这在以往的传统方式ＤＣ溅射中是做不到的。在进行易于出现异常放电的溅射成膜时，采用在ＤＣ电源上加上Ａ２Ｋ的方法，被证明确实有效地减少了异常放电的发生。

用离子镀法镀超硬质膜的提示

在模具和刀具的表面镀上超硬质膜,以提高其硬度、耐蚀性和耐磨损性。目前已有多种镀膜方式,如PVD法(真空蒸发法、溅射法、离子镀法)、CVD法,湿式镀法等,其中用离子镀法镀超硬质膜最引人注目(参见图1)。 1964年由美国的MATTOX开发的这项技术,在70年代又作了各种改进,进入80年代后才逐渐确立为生产技术。

药用冻干机新理念的研制与技术特点

针对药用冻干机使用工艺的特殊性，提出了三重热交换冷凝器冷却系统，螺杆式冷冻机组使用精制合成油，交节流与冷凝器温度控制相结合的真空控制，过滤器的灭菌与在线完整性试验和异物污染防止对策的新理念。