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题名化学沉铜的铜渣问题改善研究
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作者
何念
连纯燕
冯朝辉
王健
冼博达
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机构
硕成集团广东利尔化学有限公司
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出处
《印制电路信息》
2024年第S02期62-70,共9页
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文摘
印制电路板在化学沉铜制程中,铜渣会影响到PCB导通孔,当铜渣达到较大粒径时会造成堵孔,影响PCB的孔金属化制程。通过调查研究发现,化学沉铜的铜渣堵孔主要分为杂物核心铜渣和铜颗粒铜渣,其中铜颗粒铜渣占大部分,本文通过应用技术和产品方案进行研究,对铜颗粒铜渣进行深入研究,发现沉铜缸打气不均、负载量过大、缸壁结铜是造成铜颗粒铜渣的主要原因。由此在应用技术上改造鼓气管,增加化铜缸副槽作为改善方案;另外对产品进行优化,在原方案基础上加入新的聚季铵盐稳定剂,延长正常生产缸壁结铜出现的时间,最终铜颗粒铜渣的品质问题获得解决。
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关键词
化学沉铜
铜颗粒铜渣
改善
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Keywords
Chemical Copper Deposition
Copper Particle-Based Copper Residues
Improvement
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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