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基于卷积神经网络判定方法的激光微透镜阵列微米级加工工艺
1
作者
姚宇超
周锐
+2 位作者
严星
王振忠
高娜
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第1期43-52,共10页
在MLA曝光工艺中,曝光点的数量庞大,通过高倍率显微镜配合人工目检来判定曝光质量耗时耗力,造成工艺成本偏高。为了解决这个问题,设计了一种便于检测的圆环形图案并引入深度学习中的目标检测Yolov5模型,一定程度上能够取代人工目检,完...
在MLA曝光工艺中,曝光点的数量庞大,通过高倍率显微镜配合人工目检来判定曝光质量耗时耗力,造成工艺成本偏高。为了解决这个问题,设计了一种便于检测的圆环形图案并引入深度学习中的目标检测Yolov5模型,一定程度上能够取代人工目检,完成对曝光质量的快速判定。基于上述方法,分析了不同光刻胶厚度之下,线能量密度的最优区间与光刻胶的剖面倾角。并在同等线能量密度下通过圆度判定曝光图案失真情况。在本研究的MLA曝光工艺中,选取光刻胶厚度、激光曝光功率以及加工平台移动速度作为自变量,评价曝光合格率、光刻胶剖面倾角以及曝光圆度等加工质量参数具有重要的工程意义。
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关键词
无掩膜光刻
微透镜阵列
曝光合格率
目标检测
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职称材料
题名
基于卷积神经网络判定方法的激光微透镜阵列微米级加工工艺
1
作者
姚宇超
周锐
严星
王振忠
高娜
机构
厦门大学萨本栋微米纳米
科学
技术
研究院
福建省
能源
材料
科学
与技术创新
实验室
(
ik
k
em
)
厦门大学航空航天学院
厦门大学物理
科学与
技术
学院
厦门大学九江研究院
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第1期43-52,共10页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.62175203)
福建省科技计划资助项目(No.2020H0006)
嘉庚创新实验室应用基础研究资助项目(No.RD2020050301)。
文摘
在MLA曝光工艺中,曝光点的数量庞大,通过高倍率显微镜配合人工目检来判定曝光质量耗时耗力,造成工艺成本偏高。为了解决这个问题,设计了一种便于检测的圆环形图案并引入深度学习中的目标检测Yolov5模型,一定程度上能够取代人工目检,完成对曝光质量的快速判定。基于上述方法,分析了不同光刻胶厚度之下,线能量密度的最优区间与光刻胶的剖面倾角。并在同等线能量密度下通过圆度判定曝光图案失真情况。在本研究的MLA曝光工艺中,选取光刻胶厚度、激光曝光功率以及加工平台移动速度作为自变量,评价曝光合格率、光刻胶剖面倾角以及曝光圆度等加工质量参数具有重要的工程意义。
关键词
无掩膜光刻
微透镜阵列
曝光合格率
目标检测
Keywords
maskless lithogrophy
microlens array
qualification rate
object detection
分类号
TN248 [电子电信—物理电子学]
TH391.41 [机械工程—机械制造及自动化]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于卷积神经网络判定方法的激光微透镜阵列微米级加工工艺
姚宇超
周锐
严星
王振忠
高娜
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
0
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职称材料
已选择
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