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一种基于低温多晶硅TFT技术的柔性8位异步微处理器
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作者 Nobuo Karaki Takashi Nanmoto +3 位作者 Hiroaki Ebihara Satoshi Inoue Tatsuya Shimoda 代永平 《现代显示》 2006年第4期30-34,共5页
介绍基于低温多晶硅TFT技术和采用激光退火表面刻蚀技术的柔性8位异步微处理器,并且给出了异步电路描述语言Verilog+。32,000个晶体管的微处理器在500kHz,5V的条件下消耗电流180mA,功耗是同步微处理器的30%。
关键词 低温多晶硅 激光退火表面刻蚀 异步微处理器
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