Nd_xFe_(1-x)非晶膜及其晶化过程的TEM原位观察

用X射线衍射和透射电镜研究了用闪蒸法(Flash evaporation)在77K制备的Nd_xFe_(1-x)(X=0.06-0.90)非晶薄膜的室温稳定性及其晶化过程当0.19<X<0.50时,非晶Nd_xFe_(1-x)薄膜在室温是稳定的,晶化相呈沿膜面的薄片状生长,完全晶化后的薄膜由Nd_2Fe_(17)相和金属Nd相构成。

非晶Nd_xFe_(1-x)薄膜的穆斯堡尔谱研究

对用闪蒸法在77K制备的非晶Nd_xFe_(1-x)(x=0.20～0.40)薄膜的穆斯堡尔谱测量表明,其精细场有很宽的分布,这一分布对Nd含量只有微弱的依赖性。薄膜合金中Fe原子的有效磁矩μ_(Fe)=1.30μ_B,在所研究的非晶成分的范围内与Nd含量无关。由穆斯堡尔谱测量导出的磁有序转变温度T_c与我们在同样条件下(H→0)用磁测量得到的T_c值一致。

非晶Nd-Fe薄膜电阻的温度效应与非晶稳定性

用闪光蒸镀法在77K制备了Nd_xFe_(1-x)(x=0.06-0.80)非晶薄膜,原位测定了其电阻随温度的变化。结果表明:在0.19<x<0.50的成分范围内,非晶膜在室温下是稳定的。在晶化以前,薄膜的比电阻与温度的关系可分为三个阶段,即ρ(T)∝InT,ρ(T)∝T^2和ρ(T)∝T。晶化不是在一个固定的温度,而是在一个温度区间发生。

非晶Nd-Fe薄膜的磁性

在用闪蒸法制备的非晶Nd_xFe_(1-x)薄膜中Nd的原子磁矩呈散铁磁性排列,其有效磁矩随Nd含量增加而减小。磁有序温度T_c的值与外场和测量方法有关,表明了具有不同磁有序温度的磁性原子团的存在。交换交互作用,而不是自发磁化强度,明显地受制备条件的影响。