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利用表面光电压谱研究MEH-PPV定域跃迁 被引量:1
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作者 康博南 黄宗浩 +6 位作者 谢腾峰 王德军 常玉春 刘杨 宋俊峰 张邦恒 杜国同 《吉林大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期190-193,共4页
利用外场调制的表面光电压谱研究聚合物材料 MEH-PPV的定域跃迁 ( 3 50~ 42 0 nm)与非定域跃迁 ( 42 0~ 60 0 nm) .实验证明 。
关键词 MEH-PPV 表面光电压谱 定域态 定域跃迁 共轭聚合物 能级跃迁 聚对苯乙炔 光电性能
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XRD对ZnO薄膜生长条件和退火工艺的优化 被引量:3
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作者 王金忠 闫玮 +9 位作者 王新强 殷景志 姜秀英 杨树人 杜国同 高鼎三 Xiang Liu Hui Cao Junying Xu R.P.H.Chang 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2001年第3期169-172,共4页
利用等离子体MOCVD设备在 (0 0 1)蓝宝石上生长了ZnO薄膜。通过对在不同条件下生长的薄膜样品X射线衍射的测量和分析 ,优化了薄膜的生长条件 ,长出了半高宽仅为 0 .15°的单一取向的高质量ZnO薄膜 ,并发现生长过程中多次退火或掺氮... 利用等离子体MOCVD设备在 (0 0 1)蓝宝石上生长了ZnO薄膜。通过对在不同条件下生长的薄膜样品X射线衍射的测量和分析 ,优化了薄膜的生长条件 ,长出了半高宽仅为 0 .15°的单一取向的高质量ZnO薄膜 ,并发现生长过程中多次退火或掺氮在薄膜中引入了张应力 ,而生长结束后一次退火却引入了压应力。 展开更多
关键词 等离子体MOCVD X射线衍射 氧化锌薄膜 退火工艺 生长条件
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