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微洁净环境中的颗粒监测
1
作者
沈健
《集成电路应用》
2003年第9期71-76,共6页
微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度。新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计。安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的...
微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度。新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计。安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的环境中开始运行。
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关键词
微洁净环境
颗粒监测
洁净度
半导体加工
离子注入机
硅片探针台
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职称材料
空气中分子沾污(AMC)的实时监测
被引量:
2
2
作者
沈健
《洁净与空调技术》
2004年第2期49-52,共4页
简要地介绍了AiM监测器的原理及应用效果,该系统可以对沉积于SiO2表面的空气分子沾污AMC进行实时监测,所获得的数据对于了解洁净室内的工艺过程与产生AMC间的相互关系特别有用。通过监测吸附物总量的长期变化趋势,可以确定洁净室内环境...
简要地介绍了AiM监测器的原理及应用效果,该系统可以对沉积于SiO2表面的空气分子沾污AMC进行实时监测,所获得的数据对于了解洁净室内的工艺过程与产生AMC间的相互关系特别有用。通过监测吸附物总量的长期变化趋势,可以确定洁净室内环境沾污的基本值,以便有利于对新污染源的早期确认。
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关键词
空气分子沾污
洁净室
AMC
石英晶体微平衡计
声表面波
实时监测
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职称材料
题名
微洁净环境中的颗粒监测
1
作者
沈健
机构
美国颗粒测量系统公司
Particle Measuring Systems
出处
《集成电路应用》
2003年第9期71-76,共6页
文摘
微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度。新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计。安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的环境中开始运行。
关键词
微洁净环境
颗粒监测
洁净度
半导体加工
离子注入机
硅片探针台
分类号
TN305.97 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
空气中分子沾污(AMC)的实时监测
被引量:
2
2
作者
沈健
机构
美国颗粒测量系统公司
出处
《洁净与空调技术》
2004年第2期49-52,共4页
文摘
简要地介绍了AiM监测器的原理及应用效果,该系统可以对沉积于SiO2表面的空气分子沾污AMC进行实时监测,所获得的数据对于了解洁净室内的工艺过程与产生AMC间的相互关系特别有用。通过监测吸附物总量的长期变化趋势,可以确定洁净室内环境沾污的基本值,以便有利于对新污染源的早期确认。
关键词
空气分子沾污
洁净室
AMC
石英晶体微平衡计
声表面波
实时监测
Keywords
AMC Quartzcrystal microbalances(QCM) SAW Time of Flight/Secondary Ion Mass Spectroscopy(TOF/SIMS)
分类号
X831 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
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作者
出处
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被引量
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1
微洁净环境中的颗粒监测
沈健
《集成电路应用》
2003
0
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职称材料
2
空气中分子沾污(AMC)的实时监测
沈健
《洁净与空调技术》
2004
2
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