期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
快速热工艺系统中的氮-硅反应
1
作者 黄宜平 CarlosA.PazDeAraujo 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1989年第2期208-214,共7页
本文报道了以卤素钨灯为辐射源的快速热工艺(RTP)系统中的氮-硅直接热反应并和在常规电阻丝加热氧化炉中的氮-硅反应作了比较。并研究了RTP系统中氮-硅反应生成的超薄含氮表面层对氧化的抑制效应。实验结果表明,含氮表面层的生成以及对... 本文报道了以卤素钨灯为辐射源的快速热工艺(RTP)系统中的氮-硅直接热反应并和在常规电阻丝加热氧化炉中的氮-硅反应作了比较。并研究了RTP系统中氮-硅反应生成的超薄含氮表面层对氧化的抑制效应。实验结果表明,含氮表面层的生成以及对氧化的抑制效应和硅片初始氧化层厚度、氮-硅反应时的条件有关。 展开更多
关键词 氮-硅反应 热工艺 卤素钨灯 RTP
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部