光刻技术的发展及展望

本文综述了制造集成电路、声表面波器件、微波哗啦的关键工艺一光刻技术的发展，对式、接近式、投影曝光技术分步重复曝光技术及直接扫描成象曝光技术以及所用的曝光光泊－紫外光、Ｘ射线、电子束、离子束光源对线条的分辨率、利弊作了对比，并对光刻技术的发展趋势作了简述。

声表面波器件在通信中的应用

声表面波器件在通信中的应用中国航天工业总公司测控公司高级工程师苟永明一、前言声表面波器件（ＳＡＷＤ）在信号处理、频率控制及频率选择、信号获取诸方面具有十分广阔的应用前景。随着无线寻呼、蜂窝电话、无绳电话、无线集群、无中心选址、移动卫星通信、光纤通信等...

IEEE1149.1可测试性设计技术的研究与发展

在分析VLSI可测试性设计技术的发展情况和设计准则的基础上，讨论了研究与发展IEEE1149．1可测试性设计技术的重要意义，以及该技术在我国民用和军用工业应用的前景。

VXI总线模块设计的基本原则

VXI总线技术的出现是测试领域的一场革命,国内在消化吸收的基础上也正在自主开发,本文从电磁兼容性设计、可靠性设升和可测性设计三个方面对VXI总线模块的设计原则进行了讨论。

声表面波技术在电视领域中的应用

声表面波技术在电视领域中的应用北京中国航天总公司测控公司苟永明１前言自从１９６５年怀特发明了激励和检测声表面波（ＳＡＷ）的叉指换能器后，近３０多年的时间，世界各国已研制成功了１００多种ＳＡＷ器件，其中有２０多个品种已投入大批量生产，广泛用于无线电通信...