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X射线粉末衍射仪的测试及使用 被引量:9
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作者 胡丽华 张勇 +2 位作者 唐娟 朱健 周弟 《化学工程师》 CAS 2012年第1期16-17,20,共3页
X射线粉末衍射技术(XRD)是最重要的材料分析测试技术之一。本文结合作者的实际操作,简单的介绍了操作X射线粉末衍射仪的一些经验及其应用。
关键词 X射线粉末衍射 测试
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一种用于溶液荧光测试的简易除水除氧装置
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作者 胡丽华 张勇 周弟 《分析仪器》 CAS 2012年第1期25-26,共2页
为了满足溶液荧光测试的需要,自行设计制作了一种简易的除水除氧装置。该装置操作使用方便,非常适用于液体样品的荧光测试。
关键词 溶液 荧光测试 除水除氧装置
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浅谈PL-GPC50凝胶色谱仪的维护及使用 被引量:3
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作者 胡丽华 陈健英 +2 位作者 周秋璇 王海波 张勇 《分析仪器》 CAS 2012年第6期93-95,共3页
简要介绍了PL-GPC50凝胶色谱仪的原理、使用及维护,并对仪器使用过程中常出现的故障予以诊断和排除。
关键词 凝胶色谱仪 维护 使用
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C_2H_2/N_2流量比对沉积Ti(C,N)薄膜影响的研究
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作者 辛煜 范叔平 +2 位作者 吴建新 金宗明 杨礼富 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1997年第5期351-354,共4页
以C2H2和N2为反应气体,Ar作载气,用多弧离子法在高速钢基片上沉积Ti(C,N)薄膜。所制备的薄膜分别用SEM,XRD,XPS等技术进行分析与测试。给果表明,薄膜结构比较致密,膜厚在1.5~20μm。薄膜呈现了较强的(111)择优取向,且该... 以C2H2和N2为反应气体,Ar作载气,用多弧离子法在高速钢基片上沉积Ti(C,N)薄膜。所制备的薄膜分别用SEM,XRD,XPS等技术进行分析与测试。给果表明,薄膜结构比较致密,膜厚在1.5~20μm。薄膜呈现了较强的(111)择优取向,且该取向与流量比r=C2H2/N2有关、薄膜的主要构成是Ti(C,N),但膜中有石墨相存在。 展开更多
关键词 多弧离子法 高速钢 薄膜
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多弧离子法制备的Ti(C,N)微结构随C_2H_2/N_2流量比变化的研究(英文)
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作者 杨礼富 辛煜 +1 位作者 范叔平 金宗明 《苏州大学学报(自然科学版)》 CAS 1997年第2期81-85,共5页
用多弧离子法在高速钢(W18Cr4V)基底上沉积了Ti(N,C)薄膜,并运用SEM、XRD、XPS对该膜微观结构随进气流量比r=C_2H_2/N_2变化的情况进行了测试和分析。结果表明薄膜随r增加趋于致密,在r值较小时呈现较强的(111)择优取向,随着r值增大,(111... 用多弧离子法在高速钢(W18Cr4V)基底上沉积了Ti(N,C)薄膜,并运用SEM、XRD、XPS对该膜微观结构随进气流量比r=C_2H_2/N_2变化的情况进行了测试和分析。结果表明薄膜随r增加趋于致密,在r值较小时呈现较强的(111)择优取向,随着r值增大,(111)这一取向逐渐变弱,(220)取向渐强,薄膜呈现典型面心立方结构,主要成分为复合相Ti(N,C),膜含有少量石墨相成分存在。 展开更多
关键词 多弧离子法 择优取向 SEM 薄膜 微观结构
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ZnO薄膜的磁电光性质研究进展 被引量:1
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作者 陈爱军 吴雪梅 诸葛兰剑 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第F05期314-316,320,共4页
ZnO薄膜是一种具有优良性质的材料,如光电、p-n结特性等,并有多种制备方法,其性质取决于不同的掺杂组分。概述了ZnO薄膜的制备方法、晶格特性、光电特性、p-n结特性及其磁性掺杂。
关键词 ZNO薄膜 性质 制备 P-N结
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多弧离子法制备的Ti(C,N)微结构随C2H2/N2流量比变化的研究(英文)
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作者 杨礼富 辛煜 +1 位作者 范叔平 金宗明 《苏州大学学报(自然科学版)》 CAS 1997年第2期81-85,共页
用多弧离子法在高速钢(W18Cr4V)基底上沉积了Ti(N,C)薄膜,并运用SEM、XRD、XPS对该膜微观结构随进气流量比r=C<sub>2</sub>H<sub>2</sub>/N<sub>2</sub>变化的情况进行了测试和分析。结果表明... 用多弧离子法在高速钢(W18Cr4V)基底上沉积了Ti(N,C)薄膜,并运用SEM、XRD、XPS对该膜微观结构随进气流量比r=C<sub>2</sub>H<sub>2</sub>/N<sub>2</sub>变化的情况进行了测试和分析。结果表明薄膜随r增加趋于致密,在r值较小时呈现较强的(111)择优取向,随着r值增大,(111)这一取向逐渐变弱,(220)取向渐强,薄膜呈现典型面心立方结构,主要成分为复合相Ti(N,C),膜含有少量石墨相成分存在。 展开更多
关键词 多弧离子法 择优取向 SEM XRD XPS
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