阵列蒸发源对平移基板成膜均匀性的研究

通过离散数学积分工具推导了膜厚分布公式,描述了实际工程中具有非余弦蒸发规律的阵列蒸发源的蒸发情况。研究了不同阵列蒸发源对平移基板的成膜分布规律,并根据该规律设计了蒸发源的空间布局,主要探讨了阵列蒸发源对平移基板成膜均匀性的计算方法及膜厚分布规律,并分析了不同蒸发源开孔配置对上方基板膜厚分布的影响。结果表明,阵列蒸发源对基板的总体膜厚呈现中间周期性波动、两端分布相对低的现象;需要保持相对错位的几何阵列配置,且缩小两端的开孔孔距,方可得到比较合理均匀的膜厚分布。