半导体超纯水中微粒子监测故障与对策

微粒子是半导体超纯水中核心的微污染控制指标,在线监测100nm和50nm粒子数浓度成为保障12英寸半导体生产工艺用水的关键措施。在超纯水制备系统的配送点(POD),激光粒子计数器(LPC)发生监测报警,影响了制备系统的运行和工艺设备的生产预警。研究简述了超纯水中颗粒物对半导体生产工艺的影响,分析了微纳气泡(MNBs)被光感应器累计测量导致计数器误判报警的原因。通过采样解吸系统(SDS)的中试试验,消除了气泡颗粒形成的83%的粒子浓度干扰,还原了真实的在线检测值(平均粒子浓度0.06pcs/mL),为半导体工厂湿法清洗的质量监控提供了稳定保障。

半导体工艺与制造装备技术分析

随着科技的快速发展,半导体已成为现代工业和数字化生活的核心。从历史发展到工艺和制造装备技术,半导体展现了在技术进步中的不可替代性。本文将简述半导体的基本定义和发展历程,随后深入探讨半导体的工艺和制造装备技术,以及当前半导体生产线存在的问题和改进建议,旨在为半导体产业的进一步发展提供指导和建议。