光学塑料的注射成型

介绍了光学塑料注射过程中,影响光学性能的各种因素。通过光学塑料、注射机的选择,模具设计的诸因素分析,成型工艺条件的试验研究,得出较佳工艺的各参数。

硅、锗衬底上的软硬碳氢膜

我们使用射频-直流辉光放电系统制备了非晶碳氢膜（a-C:H）,所用的衬底为半导体级抛光后的硅、锗单晶片,锗片纯度在9个9以上,硅片为N型,电阻率10～20Ω·cm为研究淀积源对膜层结构的影响,我们除使用气态源乙炔（C2H2）外,还使用了液态源戌烷(C5H12)。所用淀积参数为:高频频率10MHz,高频功率密度1.4～2.8W/cm2（未能精确测量）,直流偏压0～600V,气体流量0.3～0.61/min,反应室内压强0.01～1托,衬底温度:室温～300℃。

光学零件防腐新工艺的研究

本文全面的论述了光学玻璃表面被腐蚀的原因,传统的防腐方法,以及新防腐工艺的机理、方法与效果。