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钛基纳米金刚石涂层场发射阴极 被引量:10
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作者 翟春雪 张志勇 +2 位作者 王雪文 赵武 阎军锋 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期30-33,共4页
设计了一种新的金刚石场发射阴极工艺.用旋涂法在金属钛片上涂覆纳米金刚石涂层,经过适当条件的真空热处理,实现钛与金刚石之间的化学键合即欧姆接触,从而形成以金属钛为衬底,碳化钛键合层为过渡层,金刚石纳米颗粒为场发射体的场发射阴... 设计了一种新的金刚石场发射阴极工艺.用旋涂法在金属钛片上涂覆纳米金刚石涂层,经过适当条件的真空热处理,实现钛与金刚石之间的化学键合即欧姆接触,从而形成以金属钛为衬底,碳化钛键合层为过渡层,金刚石纳米颗粒为场发射体的场发射阴极.样品的阈值场强可达6.3 V/μm,场发射电流密度在21 V/μm场强下可达到60.7μA/cm2.提出了样品的结构模型,并分析了其电子输运方式.样品的Fowler-Nordheim曲线基本为一直线,根据经典场发射理论,可以证实其电子发射机制为场发射.观察到在获得稳定的场发射性能之前存在激发过程,并对其作了简单解释. 展开更多
关键词 半导体材料 场发射阴极 键合 纳米金刚石 钛衬底
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