锐钛型介孔纳米TiO_2粉体的制备与机理研究

采用沉淀法,以水溶液为反应体系,无机物(硫酸氧钛和氢氧化钠)为主要原料,加入少量模板剂,制备出了锐钛型介孔纳米二氧化钛粉体,并对产物的生成机理进行了探讨。采用比表面仪、原子力显微镜(AFM)、高分辨场发射透射电镜等仪器对产品的结构进行了表征,得到具有比表面积121 m2/g、晶粒尺寸12 nm、介孔平均孔径10 nm、多孔粉体粒径<100 nm等特征的锐钛型介孔纳米二氧化钛粉体。

催化条件对SiO_2静电自组装薄膜光学性质的影响

用NH3·H2O催化和先后经HCl、NH3·H2O、HCl依次分步催化分别制备了SiO2溶胶。在低折射率的玻璃基片上用静电自组装(electrostaticselfassemblymultilayer,ESAM)法制备了聚电介质PDDA与SiO2的光学增透薄膜。研究了制备SiO2溶胶的催化条件对SiO2的光学增透薄膜在可见光区透光特性的影响。用傅立叶红外光谱仪(FTIR)、X光电子能谱(XPS)、透射电镜(TEM)对薄膜进行了组成和结构分析,用721分光光度计测试薄膜的透光性能。结果显示,两种薄膜都使基片的透过率得到大大增加。NH3·H2O催化SiO2溶胶制备的SiO2光学增透膜使基片在波长为520nm处透过率达到99.2%,相对于HCl与NH3·H2O分步催化制备的薄膜强,但薄膜的耐刮伤能力较相对较差。

静电自组装法制备SiO_2光学增透膜

为了进一步提高低折射率光学器件的可见光透过率,用静电自组装(ESAM)法在玻璃基片(折射率1.45)表面组装了多孔SiO2增透膜。以NH3·H2O催化和HCl与NH3·H2O分步催化分别制备了胶粒带负电荷的SiO2溶胶。用带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA)溶液与SiO2溶胶组装了PDDA/SiO2复合薄膜。然后进行热处理,制备了多孔SiO2薄膜。结果显示,经520℃热处理后,两种薄膜可见光峰值透过率增加,峰值波长由560nm向短波移到520nm,耐机械擦伤强度增大。NH3·H2O催化制备的薄膜透过率相对较高,峰值由98.2%达到99.2%,但耐刮伤能力相对较差。

毒重石作水泥混合材的研究

结合毒重石质量优、易加工、生产成本低及吸收X射线、γ射线等特点,制备了以普通硅酸盐水泥熟料为主要原料,毒重石作水泥混合材,辅以适量石膏的水硬性胶凝材料。考察了毒重石掺量对水泥标准稠度用水量、凝结时间、安定性、不同龄期机械强度以及辐射屏蔽能力的影响。结果表明:毒重石对普通硅酸盐水泥熟料具有一定的缓凝作用;毒重石本身参与水化的能力很差,在水泥中基本上是作为非活性掺和材料,主要起填料的作用;毒重石水泥具有一定的辐射屏蔽能力,且随着毒重石掺量的增加,水泥的屏蔽效果增强。

椭圆辊辊压磨动力分析及优化设计

分析确定了椭圆形磨辊参数的优化设计方法,根据实际应用条件可确定椭圆辊的形状。应用辊压磨的相关理论分析了椭圆形差速辊挤压粉碎的机理及其实现途径,分析了采用椭圆形磨辊实现差速挤压破碎的优缺点及实用性。