氩气源低温常压等离子体改善牙本质⁃自酸蚀粘接界面粘接效果的体外研究

目的探讨氩气源低温常压等离子体(nonthermal argonatmos phericpressure plasma,NTAPP)射流处理不同时间对牙本质⁃自酸蚀粘接剂粘接界面粘接强度及牙本质润湿性的影响。方法使用NTAPP发生装置(放电输入功率:9 W,氩气气体流量:5 L/min),分别处理5组(n=6)人牙本质试件(0、5、10、15、20 s)后,使用S3 Bond粘接剂处理牙面,制作微拉伸粘接试件并测量各组即刻粘接强度。同样参数、同样分组条件下处理牙本质面后测量牙本质表面接触角。结果随着NTAPP处理时间延长,牙本质即刻粘接强度呈显著上升趋势,以处理15 s组粘接强度最高(31.82±2.80)MPa。随着NTAPP处理时间延长,与阴性对照组牙本质表面接触角(75.57°±1.45°)相比,各实验组牙本质表面接触角均显著减小,以处理15 s组牙本质表面接触角(33.56°±2.14°)最低,湿润性最大。结论NTAPP处理可显著增加牙本质表面湿润性,提高与自酸蚀粘接剂粘接界面的粘接强度,这与处理时间相关。