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MPCVD中基片加热材料的温度场摄动模型研究
被引量:
2
1
作者
杨春山
傅文斌
周璧华
《电波科学学报》
EI
CSCD
2002年第5期495-498,共4页
为改进微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD)装置中的加热系统 ,提出了用基片加热材料替代常规加热方式的新的技术路线 ;建立了基片加热材料的微波轴对称温度场模型并得到了一般解 ;通过对基片加热材料的微波设计 ,在MPCVD装置中获得大于...
为改进微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD)装置中的加热系统 ,提出了用基片加热材料替代常规加热方式的新的技术路线 ;建立了基片加热材料的微波轴对称温度场模型并得到了一般解 ;通过对基片加热材料的微波设计 ,在MPCVD装置中获得大于基片台直径的均匀温度分布区。
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关键词
MPCVD
温度场
基片加热材料
化学气相沉积
微波等离子体化学气相沉积
摄动技术
下载PDF
职称材料
题名
MPCVD中基片加热材料的温度场摄动模型研究
被引量:
2
1
作者
杨春山
傅文斌
周璧华
机构
解放军理工大学工程兵工程学院电磁脉冲室
空军雷达
学院
空军雷达
学院
出处
《电波科学学报》
EI
CSCD
2002年第5期495-498,共4页
文摘
为改进微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD)装置中的加热系统 ,提出了用基片加热材料替代常规加热方式的新的技术路线 ;建立了基片加热材料的微波轴对称温度场模型并得到了一般解 ;通过对基片加热材料的微波设计 ,在MPCVD装置中获得大于基片台直径的均匀温度分布区。
关键词
MPCVD
温度场
基片加热材料
化学气相沉积
微波等离子体化学气相沉积
摄动技术
Keywords
substrate heating material, chemical vapor deposition (CVD), microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD), perturbation technique
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
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1
MPCVD中基片加热材料的温度场摄动模型研究
杨春山
傅文斌
周璧华
《电波科学学报》
EI
CSCD
2002
2
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