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MPCVD中基片加热材料的温度场摄动模型研究 被引量:2
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作者 杨春山 傅文斌 周璧华 《电波科学学报》 EI CSCD 2002年第5期495-498,共4页
为改进微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD)装置中的加热系统 ,提出了用基片加热材料替代常规加热方式的新的技术路线 ;建立了基片加热材料的微波轴对称温度场模型并得到了一般解 ;通过对基片加热材料的微波设计 ,在MPCVD装置中获得大于... 为改进微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD)装置中的加热系统 ,提出了用基片加热材料替代常规加热方式的新的技术路线 ;建立了基片加热材料的微波轴对称温度场模型并得到了一般解 ;通过对基片加热材料的微波设计 ,在MPCVD装置中获得大于基片台直径的均匀温度分布区。 展开更多
关键词 MPCVD 温度场 基片加热材料 化学气相沉积 微波等离子体化学气相沉积 摄动技术
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