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衬底温度对Ta_2O_5薄膜结构和光学性质的影响
被引量:
1
1
作者
马亚林
石健
+2 位作者
李绪诚
杨利忠
邓朝勇
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第23期3405-3407,共3页
采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27、150、300、450和750℃)制备Ta2O5薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行分析研究。实验结果表明,当衬底温度为450℃时,薄膜...
采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27、150、300、450和750℃)制备Ta2O5薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行分析研究。实验结果表明,当衬底温度为450℃时,薄膜开始结晶。低于450℃,薄膜为无定形态,光学透过率随着衬底温度的升高而升高,在可见光区域最大透过率为85%。薄膜结晶生成晶粒,会对通过的光束产生散射,降低透过率,光学性能下降。这些结果说明衬底温度和薄膜材料的结构、结晶转变温度及光学性质密切相关。
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关键词
磁控溅射
TA2O5
光学薄膜
结晶
透过率
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职称材料
题名
衬底温度对Ta_2O_5薄膜结构和光学性质的影响
被引量:
1
1
作者
马亚林
石健
李绪诚
杨利忠
邓朝勇
机构
贵州大学理学院电子科学技术系
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第23期3405-3407,共3页
基金
贵州省科技计划资助项目(2012-3005
2010-4005
+3 种基金
2009-15
2011-2016
2011-2104)
贵阳市科技计划资助项目(2012101-2-4)
文摘
采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27、150、300、450和750℃)制备Ta2O5薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行分析研究。实验结果表明,当衬底温度为450℃时,薄膜开始结晶。低于450℃,薄膜为无定形态,光学透过率随着衬底温度的升高而升高,在可见光区域最大透过率为85%。薄膜结晶生成晶粒,会对通过的光束产生散射,降低透过率,光学性能下降。这些结果说明衬底温度和薄膜材料的结构、结晶转变温度及光学性质密切相关。
关键词
磁控溅射
TA2O5
光学薄膜
结晶
透过率
Keywords
magnetron sputtering
Ta2 O5
optical thin film
crystallization
transmittance
分类号
TB332 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
衬底温度对Ta_2O_5薄膜结构和光学性质的影响
马亚林
石健
李绪诚
杨利忠
邓朝勇
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
1
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职称材料
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