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硅中与钼有关能级的研究 被引量:2
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作者 周洁 卢励吾 +1 位作者 韩志勇 吴汲安 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第1期8-13,共6页
利用深能级瞬态谱(DLTS)技术,并通过电子辐照、等时热退火等物理过程,鉴别了Si中与钼有关能级的本质.钼在Si中产生两个主要能级E(0.53)和H(0.36),前者为受主态,后者为施主态,这两个能级都与替位Mo原子有关.
关键词 能级 能级瞬态谱 电子辐照
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GaAs(100)衬底上自组织生长InAs量子点的研究 被引量:3
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作者 杨小平 张伟 +6 位作者 陈宗圭 王凤莲 田金法 邓元明 郑厚植 高旻 段晓峰 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第11期869-872,共4页
本文利用在GaAs(100)衬底上自组织生长超薄层InAs的方法得到了InAs量子点结构.当InAs的覆盖度小于1.7ML(Mono-Layer)时,InAs层仍保持二维生长模式,而当InAs的覆盖度大于1.7ML时... 本文利用在GaAs(100)衬底上自组织生长超薄层InAs的方法得到了InAs量子点结构.当InAs的覆盖度小于1.7ML(Mono-Layer)时,InAs层仍保持二维生长模式,而当InAs的覆盖度大于1.7ML时,InAs层将会成岛生长,得到的量子点的尺寸和分布相当均匀.我们还研究了不同覆盖度的InAs层的光致发光(PL)特性,结果发现在成岛前后,它们的PL特性有明显差异. 展开更多
关键词 砷化镓 砷化铟 半导体结构
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