193nm光致抗蚀剂用新型阻溶剂的合成及性能研究

以松香酸为主原料合成了适用于193nm光致抗蚀剂的新型阻溶促溶剂,并对其热稳定性、成像性质等进行了研究。结果表明:新型阻溶剂不仅具有良好的热稳定性和阻溶促溶作用,而且在193nm具有良好的透明性,可以应用于193nm光刻胶工艺。