SmCo薄膜的共溅射制备及磁学性能研究

采用磁控共溅射方法制备了非晶态的SmCo磁性薄膜,用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁学性能,并通过原位后退火处理研究了其磁学性能。结果表明,在600℃下退火30分钟,SmCo薄膜样品的矫顽力升高,并且磁化取向有从面内转向垂直方向的趋势。