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工艺参数对Ni_(81)Fe_(19)薄膜磁性及微结构影响 被引量：6
1
作者 赵洪辰 于广华 +2 位作者 金成元 苏世漳 朱逢吾 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期243-245,共3页
在不同本底真空和工作气压下制备了不同厚度的Ｎｉ８１Ｆｅ１９／Ｔａ薄膜，并进行了磁性测量 和原子力显微镜分析．结果表明，较厚的薄膜、较高的本底真空和较低的工作气压下制备的薄 膜有较大的各向异性磁电阻．其原因是高本底真空和... 在不同本底真空和工作气压下制备了不同厚度的Ｎｉ８１Ｆｅ１９／Ｔａ薄膜，并进行了磁性测量 和原子力显微镜分析．结果表明，较厚的薄膜、较高的本底真空和较低的工作气压下制备的薄 膜有较大的各向异性磁电阻．其原因是高本底真空和低工作气压导致大晶粒度和低粗糙度，进 而降低电子的散射，减小电阻Ｒ，增大△Ｒ／Ｒ．而较厚薄膜中，大晶粒度的作用将抵消高粗糙度的 负作用，使△Ｒ／Ｒ值增大． 展开更多
关键词 各向异性磁电阻 表面粗糙度 晶粒尺寸 镍铁薄膜 磁性 微结构 工艺参数
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