电脉冲参数对NiTi形状记忆合金表面涂膜钙化处理的影响

采用纯化学处理方法对NiTi形状记忆合金表面进行羟基磷灰石膜层的沉积,通过改变脉冲频率和脉冲处理时间,探讨了电脉冲作用下钙化处理对NiTi形状记忆合金表面涂膜的影响,分析了不同浓度配置的钙化液,以及脉冲参数对试样表面羟基磷灰石膜层生长的响应规律。结果表明:浓度为Ca2+3.10 mmol/L,K+4.64 mmol/L,Na+126.8 mmol/L,Cl-144.5 mmol/L,HPO42-1.86 mmol/L,pH值呈弱碱性的钙化液最适合于钙磷层的生长;经适当处理后,试样表面生成了疏松多孔的钙磷层,经检测其为羟基磷灰石和其他钙磷盐的混合物;电脉冲的加入在一定程度上加速了钙磷层的沉积,并提高了生成的羟基磷灰石膜的纯度。