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p-GaAs/n-GaAs MOCVD外延层少子扩散长度的液结光伏谱测量和分析
1
作者
陈朝
王健华
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第3期191-195,共5页
用液结光伏谱方法首次在PN4350光伏谱仪上对用国产MOCVD设备生长的九个p-GaAs/n-GaAs外延样品p型外延层的少于扩散长度Ln和掺杂浓度NA的关系作了测量和分析.结果表明,Ln-NA关系对反应管的清洁度非...
用液结光伏谱方法首次在PN4350光伏谱仪上对用国产MOCVD设备生长的九个p-GaAs/n-GaAs外延样品p型外延层的少于扩散长度Ln和掺杂浓度NA的关系作了测量和分析.结果表明,Ln-NA关系对反应管的清洁度非常敏感.如果反应管经严格清洗,并仅生长GaAs材料,那么Ln-NA关系同前人报道的无沾污生长的样品基本一致;否则Ln值就明显偏小.用本方法测定GaAs外延层的Ln值具有简便、准确的优点,可作为检测GaAs外延层质量的重要手段.
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关键词
砷化镓
MOCVD
外延层
少子扩散长度
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职称材料
题名
p-GaAs/n-GaAs MOCVD外延层少子扩散长度的液结光伏谱测量和分析
1
作者
陈朝
王健华
机构
集成光电子学国家重点联合实验室清华大学实验区清华大学电子工程系
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第3期191-195,共5页
文摘
用液结光伏谱方法首次在PN4350光伏谱仪上对用国产MOCVD设备生长的九个p-GaAs/n-GaAs外延样品p型外延层的少于扩散长度Ln和掺杂浓度NA的关系作了测量和分析.结果表明,Ln-NA关系对反应管的清洁度非常敏感.如果反应管经严格清洗,并仅生长GaAs材料,那么Ln-NA关系同前人报道的无沾污生长的样品基本一致;否则Ln值就明显偏小.用本方法测定GaAs外延层的Ln值具有简便、准确的优点,可作为检测GaAs外延层质量的重要手段.
关键词
砷化镓
MOCVD
外延层
少子扩散长度
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
p-GaAs/n-GaAs MOCVD外延层少子扩散长度的液结光伏谱测量和分析
陈朝
王健华
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996
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