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微波等离子体法沉积镍膜的研究 被引量:1
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作者 于庆先 孙四通 +3 位作者 张敬祎 高秀敏 黄富育 李烈英 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期604-606,620,共4页
采用微波等离子镀膜机制备镍薄膜。该方法的特点是用纯金属镍为靶,用微波产生等离子体,用交流电源作为轰击电源,远程输运。使用XRD、SEM、EDS对采用微波等离子法沉积的薄膜进行表征,对实验结果进行分析,并对镀膜工艺进行了初步探索。
关键词 微波等离子体 镍膜 离子轰击
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