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微波等离子体法沉积镍膜的研究
被引量:
1
1
作者
于庆先
孙四通
+3 位作者
张敬祎
高秀敏
黄富育
李烈英
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期604-606,620,共4页
采用微波等离子镀膜机制备镍薄膜。该方法的特点是用纯金属镍为靶,用微波产生等离子体,用交流电源作为轰击电源,远程输运。使用XRD、SEM、EDS对采用微波等离子法沉积的薄膜进行表征,对实验结果进行分析,并对镀膜工艺进行了初步探索。
关键词
微波等离子体
镍膜
离子轰击
下载PDF
职称材料
题名
微波等离子体法沉积镍膜的研究
被引量:
1
1
作者
于庆先
孙四通
张敬祎
高秀敏
黄富育
李烈英
机构
青岛
科技大学材料科学与工程学院
青岛环友等离子技术研究所
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期604-606,620,共4页
基金
青岛市信息产业局资助项目(A-2009-06)
文摘
采用微波等离子镀膜机制备镍薄膜。该方法的特点是用纯金属镍为靶,用微波产生等离子体,用交流电源作为轰击电源,远程输运。使用XRD、SEM、EDS对采用微波等离子法沉积的薄膜进行表征,对实验结果进行分析,并对镀膜工艺进行了初步探索。
关键词
微波等离子体
镍膜
离子轰击
Keywords
Microwave plasma
Ni-film
Ion bombardment
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微波等离子体法沉积镍膜的研究
于庆先
孙四通
张敬祎
高秀敏
黄富育
李烈英
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2010
1
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