多弧离子镀制备(Ti,Cr)N纳米复合膜的研究进展

文章通过调研国内外多弧离子镀制备(Ti,Cr)N纳米复合膜的研究,分析了偏压、弧电流等制备参数对薄膜机械性能的影响。调研发现:在TiN薄膜中引入Cr元素后,有效地提升了薄膜的机械性能;而偏压和弧电流在多弧离子镀制备(Ti,Cr)N的过程中,对成膜性质有很重要的作用。从理论原理来看,偏压提供了加速离子所需的能量,弧电流则是弧光放电的基础。它们的共同特征是数值增大会给离子带来更多的能量,加剧离子对衬底的撞击,从而提高膜基结合力和薄膜硬度。不过因为作用机理的不同,它们对薄膜的影响也不都是正面的,比如偏压较大时会降低薄膜的厚度和沉积速率,而弧电流过大则会增加大液滴的形成概率。因此,在多弧离子镀制备(Ti,Cr)N薄膜的过程中,应该在综合评估各实验参数的影响后进行优化,从而提高薄膜机械性能。