电子级多晶硅生产中间产品氯硅烷中痕量磷含量检测方法进展

采用改良西门子法在生产电子级多晶硅过程中,精馏中间产物氯硅烷通入多晶硅还原炉,通过氢气还原氯硅烷生产多晶硅,其中氯硅烷中存在的各种形式的磷作为施主杂质,对电子级多晶硅产品质量影响重大。文章系统阐述电子级多晶硅生产中间产品氯硅烷中痕量磷含量的检测方法及研究进展,通过比较各种氯硅烷中痕量磷含量杂质检测方法的优缺点,以供日常检测参考。

深能级瞬态谱检测电子级多晶硅中的痕量Zn元素含量的研究应用

本文研究用深能级瞬态谱(DLTS)分析电子级多晶硅中的痕量Zn元素含量,首先采用传统电容深能级变温测试方法,通过测试发现没有有效结果,接着对测试方法进行改进,采用光生深能级测试方式进行测试,测试结果表明在整个变温范围内瞬态曲线符合测试预期。虽然整体变温结果仍然无法进行有效数据拟合,但从测试结果表明,测试条件在137K时,发现有一相对较强特征峰,根据该峰对应的瞬态测试曲线推定是Zn元素产生的,浓度约在2×1014cm-3。

用高分辨电感耦合等离子体质谱仪检测电子级多晶硅中表面金属杂质的方法

将多晶硅试样用硝酸、氢氟酸和水的混酸(1:1:10)浸取后,在硝酸介质中,用高分辨电感耦合等离子体质谱仪定量检测电子级多晶硅中表面金属杂质痕量分析方法。对杂质成分Na、K、Fe、Ca等的测定同位素和分辨率的比对研究,优选出最佳参数可显著减少对绝大多数多原子离子以及对电荷分子干扰的影响危害,实现了被测元素与干扰元素的完全分离。标准曲线线性R值>0.999,方法检出限<5ng/L,采用MSA分析Na、K、Ca、Fe元素的测量精确度R&R%<10%。

研究电感耦合等离子体质谱法检测饮用水中6种痕量重金属元素

本文分析大众日常饮水中6种含量重金属元素,并采用电感耦合等离子体质谱法,分析大众日常饮水中的镉、铅、锌、铜、镍、铬6种重金属元素,并对其进行测量,了解其在饮水中的成分,并使用72Ge、45Sc、作为内标元素,分析仪器波动图谱,选择仪器测量的参数作为分析实验结果的凭据,通过电感耦合等离子体质谱法,测定饮水中的镉、铅、锌、铜、镍、铬重金属元素,借助电感耦合等离子体质谱法不仅可以快速得到实验结果,还可以提升实验测验结果的准确性。

气相色谱分析技术在化工原料检测中的应用思考

气相色谱法理论先进、检测精度高、适用范围广,近年来被广泛应用于化工原料检测活动。本文运用文献资料法、调查法对气相色谱分析技术的原理、特点进行分析,并就气相色谱技术在化工原料检测中的具体应用展开探究,以供参考。

镁合金微弧氧化膜上不同功率磁控溅射制得复合膜的摩擦学性能研究

为进一步改善镁合金微弧氧化膜的摩擦学性能,在该微弧氧化膜上,采用磁控溅射技术,在不同功率下沉积碳膜,制备碳含量不同的微弧氧化/磁控溅射复合膜。利用拉曼光谱仪检测膜层中碳结构,采用扫描电镜(SEM)和能谱(EDS)考察膜层摩擦磨损前后微观形貌、元素组成、分布及含量;应用球-盘摩擦试验机研究膜层摩擦学性能。结果表明:利用磁控溅射技术在镁合金微弧氧化膜表面沉积的碳膜,部分地封闭了微弧氧化膜微孔,减小了微孔孔径和微孔数量,降低了膜层表面粗糙度。复合膜在摩擦磨损过程中,摩擦系数较小,磨痕较窄且浅,磨损率较低,呈现出较优异的摩擦学性能。功率对微弧氧化/磁控溅射复合膜具有明显的影响,高溅射功率下制备的复合膜,由于拥有更光滑的表面,更多地具有自润滑特性的碳,摩擦系数更小,磨痕更窄且浅,磨损率更低,摩擦学性能更为优异,尤其是在高载荷下,可对基体提供更显著的保护。

反应-结晶耦合法生产硝酸钾的研究

探索了合成法制备硝酸钾的新工艺路线并对流程进行了模拟,通过将中和反应和结晶两个过程集成在同一结晶器中完成,实现反应-结晶过程的耦合,同时充分利用中和反应热为体系水分的蒸发提供能量,使能量得到更加合理利用,达到节能降耗的目的。