高非线性光子晶体光纤中布拉格光栅的制作

采用相位掩模版法实验研究了高非线性掺锗光子晶体光纤中布拉格光栅的制作。实验中采用的光子晶体光纤的非线性系数约为12 W-1km-1,模场直径约为2.4 mm。分析了布拉格光栅的反射率随着曝光脉冲数的变化,随着曝光脉冲数的增加其反射率逐渐达到饱和,继续增加曝光量发射率开始下降。实验验证了可以在高非线性光子晶体中写入布拉格光栅,得到光栅的反射率为44.4%,这对于研究光纤布拉格光栅的非线性效应和应用具有重要意义。讨论了影响布拉格光栅写入效率的因素。

高非线性光子晶体光纤与单模光纤之间的熔接及其损耗分析

采用商用的光纤熔接机实现了高非线性光子晶体光纤和单模光纤之间的熔接,给出了熔接的过程并指出了熔接过程中要注意的问题。分析了影响熔接损耗的主要因素,理论分析结果和实验结果是一致的。