高灵敏度高选择性气敏材料——金属酞菁配合物

酞菁配合物是一类重要的光电功能材料。由于它的特殊结构使其成为高灵敏度高选择性气敏材料 ,具有极好的应用前景。本文在介绍酞菁配合物的结构特点、合成方法、气敏特性及其最新研究进展的基础上 ,讨论了酞菁配合物的气敏机理及膜结构、中心金属和取代基对气敏性的影响 。

一种新型芴类衍生物的光谱性质研究

合成了具有大π共轭性的对称型芴类衍生物9,9-二(2-乙基已基)-2,7-二(2-(4-甲氧基)苯-2,1-乙烯基)芴(简写为MO-Flu-MO)。通过元素分析、质谱、紫外-可见光谱和红外光谱对其进行了表征。测试了该染料在乙腈、二氯甲烷、四氢呋喃和正己烷4种不同极性溶剂中的线性吸收光谱和单光子荧光谱。结果发现溶剂效应对吸收光谱和荧光光谱表现出不同程度的影响,对产生这些光谱行为的主要原因进行了讨论。

四-α-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)酞菁铜LB膜及其气敏性

为了得到分子排列有序的酞菁薄膜,提高材料的气敏特性,选取四-α-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)酞菁铜在亲水基片上以Z型成膜方式拉制了多层LB膜.膜崩溃压为60 mN·m-1,分子极限面积为0.38 nm2.用偏振紫外测定了酞菁铜分子在LB膜中的取向,结果表明四-α-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)酞菁铜分子以60.9°倾斜角倾斜排列于基质上,且分子之间以J-聚集态存在.室温下四-α-(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)酞菁铜LB膜对体积分数为2×10-5的乙醇气体有响应,对体积分数为1×10-4的乙醇气体的响应时间为2 min,恢复时间为1 min.

四-α(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)酞菁铜LB膜制备及电子吸收光谱研究

将四-a(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)酞菁铜在亲水基片上以Z型成膜方式拉制了多层LB膜。膜崩溃压为60 mN·m-1,分子极限面积为0.33nm2。研究了酞菁铜的成膜条件,表明LB膜形成与水的纯度、铺展剂、铺展量、推膜速度等因素有关。不同层数的酞菁铜LB膜的紫外可见光谱表明,在LB膜中酞菁铜分子之间是以J-聚集形态存在。