固态源输运系统推动铪基栅介质的应用

在生产中引入高介电常数绝缘材料/金属栅电极结构,需要采用全新的制造技术,前驱物和输运系统推动了铪基材料栅极绝缘层的应用。ALD技术也促进了新一代栅电极材料的推广和应用。

基于硅的锗外延技术实现高性能CMOS器件

相对于采用选择性锗硅外延的应变硅而言,基于锗工艺制造的 PMOS 能够进一步提高其驱动能力。将适当的锗前驱物安装在标准硅外延设备上就可以生产锗硅(GOS)晶圆。