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溅射装置及其驱动方法以及使用该装置制造基板的方法
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作者 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期50-50,共1页
一种溅射装置包括基座以及多个靶器件。基板紧固地固定在基座上。靶器件是可旋转的并且设置为与基板的中心区域和基板中与中心区域相邻的外围区域相对。因为靶器件的数目少,可以减少溅射装置的相应的成本和尺寸。此外,因为靶器件旋转... 一种溅射装置包括基座以及多个靶器件。基板紧固地固定在基座上。靶器件是可旋转的并且设置为与基板的中心区域和基板中与中心区域相邻的外围区域相对。因为靶器件的数目少,可以减少溅射装置的相应的成本和尺寸。此外,因为靶器件旋转,可以形成更均匀的层并因而可以提高可靠性。 展开更多
关键词 溅射装置 基板 驱动方法 制造 中心区域 高可靠性 可旋转 器件
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