刻蚀在逻辑器件图形化中的角色

由于引进极紫外线（EUV）光刻技术的迟滞，技术专家们开始利用现有光刻工具的替代性方案去完成32及22纳米工艺。例如，一个颇具前景的解决方案是将间距要求严苛的图形拆分到两个掩膜版，这样图形间距可以加倍。