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浅析7nm之后的工艺制程的实现
被引量:
2
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作者
Mark LaPedus
《集成电路应用》
2017年第1期50-53,共4页
近来,Global Foundries宣布将会推进7 nm Fin FET工艺,引发了行业对工艺节点、光刻等技术的探讨。这是是来自Semi Engineering年的一篇报道,带领大家了解7 nm工艺及以后的半导体业界的发展方向。
关键词
集成电路制造
7nm
FINFET
GLOBALFOUNDRIES
下载PDF
职称材料
题名
浅析7nm之后的工艺制程的实现
被引量:
2
1
作者
Mark LaPedus
机构
eetimes半导体工程制造
出处
《集成电路应用》
2017年第1期50-53,共4页
文摘
近来,Global Foundries宣布将会推进7 nm Fin FET工艺,引发了行业对工艺节点、光刻等技术的探讨。这是是来自Semi Engineering年的一篇报道,带领大家了解7 nm工艺及以后的半导体业界的发展方向。
关键词
集成电路制造
7nm
FINFET
GLOBALFOUNDRIES
Keywords
integrated circuit manufacturing, 7 nm, FinFET, GlobalFoundries
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
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1
浅析7nm之后的工艺制程的实现
Mark LaPedus
《集成电路应用》
2017
2
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