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浅析7nm之后的工艺制程的实现 被引量:2
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作者 Mark LaPedus 《集成电路应用》 2017年第1期50-53,共4页
近来,Global Foundries宣布将会推进7 nm Fin FET工艺,引发了行业对工艺节点、光刻等技术的探讨。这是是来自Semi Engineering年的一篇报道,带领大家了解7 nm工艺及以后的半导体业界的发展方向。
关键词 集成电路制造 7nm FINFET GLOBALFOUNDRIES
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