表面分析技术在半导体器件研发与制造中的应用

材料与表面分析技术是半导体器件研发与生产中不可缺少的部分。它在缩短研发时间、提高成品率方面具有不可替代的作用。适当、适时地引入分析技术将大大缩短研发时间,提高产品质量,最终实现生产成本的最小化。材料与表面分析技术与一般生产中采用的分析测量最大的区别在于前者给出的是因,而后者给出的是果。本文将简要地介绍半导体材料中常用的分析技术及其应用。其中对常用的SIMS、TOF-SIMS、XPS和AES作了简单的阐述。

表面分析技术在半导体器件研发与制造中的地位

材料与表面分析技术在半导体器件研发与生产中的地位是一个既清楚又模糊的问题。原因是它的作用有其显见的一面也有其隐匿的一面。如何在实践中发挥它的作用不是一个能够简单地回答的问题。本文将就这一问题进行了浅显的初探。

二次离子质谱仪(SIMS)的原理及应用

二次离子质谱仪(SIMS)是表面分析中应用最广泛的技术之一。它的特点是高灵敏度(最低可探测浓度为ppm￣ppb数量级)和高分辨率(大约10!)。由于半导体材料的特殊性,即其电学特性是由微量元素所决定的,在掺杂、沾污等测量分析中SIMS已成为不可替代的手段。本文将对SIMS的原理及应用进行较为详细的介绍。