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表面分析技术在半导体器件研发与制造中的应用
被引量:
1
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作者
田春生
《集成电路应用》
2005年第5期32-34,共3页
材料与表面分析技术是半导体器件研发与生产中不可缺少的部分。它在缩短研发时间、提高成品率方面具有不可替代的作用。适当、适时地引入分析技术将大大缩短研发时间,提高产品质量,最终实现生产成本的最小化。材料与表面分析技术与一般...
材料与表面分析技术是半导体器件研发与生产中不可缺少的部分。它在缩短研发时间、提高成品率方面具有不可替代的作用。适当、适时地引入分析技术将大大缩短研发时间,提高产品质量,最终实现生产成本的最小化。材料与表面分析技术与一般生产中采用的分析测量最大的区别在于前者给出的是因,而后者给出的是果。本文将简要地介绍半导体材料中常用的分析技术及其应用。其中对常用的SIMS、TOF-SIMS、XPS和AES作了简单的阐述。
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关键词
表面分析技术
半导体器件
研发
应用
TOF-SIMS
制造
半导体材料
产品质量
生产成本
分析测量
可替代
成品率
最小化
AES
XPS
时间
缩短
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职称材料
题名
表面分析技术在半导体器件研发与制造中的应用
被引量:
1
1
作者
田春生
机构
evans分析集团加州
出处
《集成电路应用》
2005年第5期32-34,共3页
文摘
材料与表面分析技术是半导体器件研发与生产中不可缺少的部分。它在缩短研发时间、提高成品率方面具有不可替代的作用。适当、适时地引入分析技术将大大缩短研发时间,提高产品质量,最终实现生产成本的最小化。材料与表面分析技术与一般生产中采用的分析测量最大的区别在于前者给出的是因,而后者给出的是果。本文将简要地介绍半导体材料中常用的分析技术及其应用。其中对常用的SIMS、TOF-SIMS、XPS和AES作了简单的阐述。
关键词
表面分析技术
半导体器件
研发
应用
TOF-SIMS
制造
半导体材料
产品质量
生产成本
分析测量
可替代
成品率
最小化
AES
XPS
时间
缩短
分类号
O641.4 [理学—物理化学]
TG178 [金属学及工艺—金属表面处理]
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作者
出处
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1
表面分析技术在半导体器件研发与制造中的应用
田春生
《集成电路应用》
2005
1
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