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多晶La-Pb-Mn-O体材料的巨磁电阻效应 被引量:3
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作者 祝向荣 沈鸿烈 +7 位作者 沈勤我 邹世昌 TsukamotoKoichi YanagisawaTakeshi ItoToshimitsu HiguchiNoboru OkadaYasumasa OkutomiMamoru 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第6期915-920,共6页
利用固相反应法制备了多晶立方结构的La-Pb-Mn-O体材料.材料的铁磁相变温度Tc为257K,其金属-半导体转变温度Tp为251K.外加磁场分别为5T和13T时,材料的巨磁电阻(GMR)峰值分别达到72%和85%.在77K~室温的温度范围内,材料都... 利用固相反应法制备了多晶立方结构的La-Pb-Mn-O体材料.材料的铁磁相变温度Tc为257K,其金属-半导体转变温度Tp为251K.外加磁场分别为5T和13T时,材料的巨磁电阻(GMR)峰值分别达到72%和85%.在77K~室温的温度范围内,材料都具有GMR效应,Tp附近具有GMR峰值效应.GMR效应与自旋极化子行为有关,而Tp附近的GMR峰值效应除了与自旋极化子行为有关外,与磁场作用下载流子自旋无序散射的急剧下降也有关.另外,多晶材料丰富的晶界结构对材料在整个测量温度范围内,尤其是温度远低于Tp时的GMR效应也有贡献.在Tp处;晶粒间自旋极化隧道效应被抑制,导致低场GMR效应的消失. 展开更多
关键词 巨磁电阻 金属 半导体 稀土锰氧化物 铁磁材料
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掠入射荧光XAFS研究(Ge_4/Si_4)_5/Si(001)超晶格的结构
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作者 韦世强 HiroyukiOyanagi 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2000年第3期356-360,共5页
本文用掠入射荧光XAFS研究 (Ge4/Si4) 5 /Si(0 0 1 )形变超晶格的局域结构 .超晶格中的Ge Ge和Ge Si第一配位键长分别为RGe Ge =0 .2 43nm和RGe Si =0 .2 38nm ,与晶态Ge(RGe Ge =0 .2 45nm)和共价Ge Si键长RGe Si =0 .2 40nm相比 ,其... 本文用掠入射荧光XAFS研究 (Ge4/Si4) 5 /Si(0 0 1 )形变超晶格的局域结构 .超晶格中的Ge Ge和Ge Si第一配位键长分别为RGe Ge =0 .2 43nm和RGe Si =0 .2 38nm ,与晶态Ge(RGe Ge =0 .2 45nm)和共价Ge Si键长RGe Si =0 .2 40nm相比 ,其配位键长缩短了 0 .0 0 2nm ,表明Ge原子周围的晶格产生了扭曲 ,Ge Ge配位数为 1 .8和Ge Si配位数为 2 .2显然偏离了理论的配位数Ge Ge为 3和Ge Si配位数为 1 .我们提出Ge和Si原子的位置交换模型来解释 (Ge4/Si4) 5 展开更多
关键词 荧光XAFS 局域结构 锗/硅超晶格 半导体
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La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_(3-δ)体材料的巨磁电阻特性 被引量:1
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作者 祝向荣 沈鸿烈 +10 位作者 李铁 李冠雄 沈勤我 邹世昌 KoichiTsukamato TakeshiYamagisawa MamoruOkutomi NoboruHiguchi ToshimitsuIto UditChatterjee GopalChandraBhar 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 1999年第3期229-234,共6页
利用高温烧结法制备了多晶立方结构的La0.67Ca0.33 MnO3-δ体材料。材料的居里温度(TC)为280K,其金属半导体转变温度(Tp) 为270K,接近于TC。外加磁场下的磁电阻(MR) 峰值温度与Tp 十分接... 利用高温烧结法制备了多晶立方结构的La0.67Ca0.33 MnO3-δ体材料。材料的居里温度(TC)为280K,其金属半导体转变温度(Tp) 为270K,接近于TC。外加磁场下的磁电阻(MR) 峰值温度与Tp 十分接近。外加磁场为0.6T 和5T时,材料的MR 峰置分别达到40% 和76% 。材料具有显著的巨磁电阻效应。在液氮温度附近,也观察到了相当大的磁电阻效应。利用高温烧结法制备了多晶立方结构的La0.67Ca0.33 MnO3-δ体材料。材料的居里温度(TC)为280K,其金属半导体转变温度(Tp) 为270K,接近于TC。外加磁场下的磁电阻(MR) 峰值温度与Tp 十分接近。外加磁场为0.6T 和5T时,材料的MR 峰置分别达到40% 和76% 。材料具有显著的巨磁电阻效应。在液氮温度附近,也观察到了相当大的磁电阻效应。 展开更多
关键词 烧结 巨磁电阻效应 多晶
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